放射性同位元素の製造方法及び装置

開放特許情報番号
L2011000896
開放特許情報登録日
2011/2/18
最新更新日
2017/3/22

基本情報

出願番号 特願2010-008604
出願日 2010/1/18
出願人 独立行政法人 日本原子力研究開発機構
公開番号 特開2010-223940
公開日 2010/10/7
登録番号 特許第5522564号
特許権者 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構
発明の名称 放射性同位元素の製造方法及び装置
技術分野 電気・電子
機能 機械・部品の製造、材料・素材の製造
適用製品 放射性同位元素の製造装置
目的 濃縮↑2↑3↑5Uを使用せず、原子炉施設を利用せず、放射性廃棄物を多量に発生させることなく、効率よく廉価にかつ簡便に放射性同位元素の安定供給を実現できる方法及び装置を提供する。
効果 核燃料物質の規制を受ける必要がなく、小型化できるため、病院等の施設において簡便に利用できる。また、重いターゲット核種の場合も軽いターゲット核種の場合と同じように小規模加速器で対応できると共にターゲット内での電磁相互作用によるエネルギー損失そしてそれに伴うターゲットの発熱に煩わされる事が無く、陽子ビームの場合などに比べ100倍程度以上の重量のターゲットを一度に照射する事が可能であり、放射性同位元素(RI)生成量を高める事ができる。
技術概要
図1はRI製造装置を模式的に示す図、図2は、生成するRIが気体の場合に使用する試料容器を模式的に示す図、図3は別の例のRI製造装置の要部を模式的に示す図で、(a)は重水素ビーム進行方向に垂直な方向から見た模式図で高速中性子発生部と原料ターゲットが密着している場合、(b)は高速中性子発生部と原料ターゲットが離間している場合、(c)は重水素ビーム進行方向から見た模式図である。図中、21は重水素ビーム、22は直方体状の真空ビーム管、23は3重水素(トリチウム)を吸着したチタン膜を有する銅板、24は原料ターゲット、25は冷却部材、26は陽子ビームである。冷却部材25は銅板23と一体になっていてもよく、この場合、銅板23は内壁と外壁を有し、内壁(真空室側)の銅板23の表面には、3重水素を吸着したチタン膜が設けられ、外壁(大気側)の銅板の表面には、原料ターゲット24が密着配置されるか、離間配置され、内壁と外壁の間の空間を水等の冷却媒体が通過するようになっている。図4はRIの製造手順を示すブロック図である。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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