磁性ガーネット膜、磁気転写素子及び光学系装置

開放特許情報番号
L2011000855
開放特許情報登録日
2011/2/18
最新更新日
2011/2/18

基本情報

出願番号 特願2007-207700
出願日 2007/8/9
出願人 国立大学法人長岡技術科学大学
公開番号 特開2009-043964
公開日 2009/2/26
発明の名称 磁性ガーネット膜、磁気転写素子及び光学系装置
技術分野 電気・電子
機能 材料・素材の製造
適用製品 磁気転写素子等に有用な磁性ガーネット膜に適用する。
目的 磁区を特定に制御して形成された磁性ガーネット膜を提供する。
効果 所定部位における電気分布又は磁化分布を従来よりも正確に確認させ得る磁性ガーネット膜が可能になる。
技術概要
磁化状態の変化により生じる磁区を細かく寸断するグラニュラー構造に形成され、磁化容易軸が膜面に平行である磁性ガーネット膜にする。例えば、オクチル酸イットリウム、オクチル酸鉄とロジンとの反応物溶液にオクチル酸ビスマスを加えて調製された混合溶液を、ガドリニウムガリウムガーネット(Gd↓3Ga↓5O↓1↓2)基板2に、スピンコート法等による塗布と乾燥を繰り返し行う有機金属堆積法により、膜厚200nm〜1μmからなるY↓3↓−↓xBi↓xFe↓5O↓1↓2組成を有する磁性ガーネット膜3を得、更に、この磁性ガーネット膜3に磁性体金属たる白金やアルミニウム等からなり光を反射させる反射膜4を成膜することにより磁気転写素子1が構成できる(図)。尚、この磁気転写素子を用いることにより、更に光学系装置が可能になる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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