電荷中和装置

開放特許情報番号
L2011000778
開放特許情報登録日
2011/2/18
最新更新日
2015/10/1

基本情報

出願番号 特願2010-261930
出願日 2010/11/25
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2012-113967
公開日 2012/6/14
登録番号 特許第5510830号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 電荷中和装置
技術分野 電気・電子、機械・加工
機能 制御・ソフトウェア、機械・部品の製造
適用製品 全てのイオンビーム、あるいは中性粒子ビーム発生装置、電荷中和装置
目的 イオンビーム源装置においてイオンビームの発散を抑制し効率を著しく向上させことができる電荷中和装置を提供する。
効果 イオンビームの電荷の中和を、電子ビームの照射という簡単な手法で実現することが可能となる。
空間電荷によるイオンビームの発散を、効率的、しかも容易に抑えることが可能となる。
純度の高いビームの発生が可能となり、また、安定な動作を行うことが可能となる。
装置の保守・管理が容易となり、低エネルギー領域で、高い電流密度を持った純度の高いイオンビームの発生が可能となる。
イオンドーピング、材料表面改質、材料合成、イオンエンジンなどの分野に応用される。
技術概要
メッシュ構造、あるいは1個ないし多数の孔を持った電極を用いて、プラズマ源容器内のプラズマ源からイオンを引き出すイオンビーム源装置において、プラズマ源とは反対のビーム引き出し方向から、一様で制御された電子ビームを照射することにより、照射された電極面から二次電子を放出させて、電極孔から引き出されたイオンの空間電荷を中和して、イオンビームの発散を抑制するようにしたことを特徴とする電荷中和装置。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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