ケージ型メソポーラスシリカ(SNC−2)、その製造方法およびそれを用いた吸着剤

開放特許情報番号
L2011000711
開放特許情報登録日
2011/2/10
最新更新日
2015/10/8

基本情報

出願番号 特願2008-271929
出願日 2008/10/22
出願人 独立行政法人物質・材料研究機構
公開番号 特開2009-173521
公開日 2009/8/6
登録番号 特許第5403502号
特許権者 国立研究開発法人物質・材料研究機構
発明の名称 ケージ型メソポーラスシリカ(SNC−2)、その製造方法およびそれを用いた吸着剤
技術分野 無機材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 ポーラスガラス、セルロース、キトサン、シリカゲル、ポリスチレンコロイド粒子
目的 吸着剤に適したメソポーラスシリカ、その製造方法およびそれを用いた吸着剤の提供。
効果 本技術によれば、大きな孔径を有するため、酵素等の巨大分子の吸着に好適である。さらに、本技術によるケージ型メソポーラスシリカは、空間群がIa3dであり三次元細孔構造を有する。このため、従来よりも大きな吸着能を発揮できる。
技術概要
本技術のケージ型メソポーラスシリカは、空間群はIa3dであり、比表面積は4.3×10↑2m↑2/g〜7.0×10↑2m↑2/gの範囲であり、比孔容量は8.0×10↑(−1)cm↑3/g〜15×10↑(−1)cm↑3/gの範囲であり、孔径は6nm〜15nmの範囲である。又、ケージ型メソポーラスシリカを製造する方法は、界面活性剤P123と、n−ブタノールと、水と、酸と、テトラエトキシシランとを混合する工程と、混合する工程によって得られた混合物を加熱して、テトラエトキシシランを高分子化する工程と、高分子化する工程によって得られた高分子を加熱しながらマイクロ波を照射して、ケイ化させる工程と、ケイ化させる工程によって得られたケイ化物を加熱して、残留する界面活性剤P123を除去する工程とからなる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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