ポリマ有機・無機又は金属積層体とその作製方法

開放特許情報番号
L2011000667
開放特許情報登録日
2011/2/10
最新更新日
2015/10/8

基本情報

出願番号 特願2008-062789
出願日 2008/3/12
出願人 独立行政法人物質・材料研究機構
公開番号 特開2009-214494
公開日 2009/9/24
登録番号 特許第5024798号
特許権者 国立研究開発法人物質・材料研究機構
発明の名称 ポリマ有機・無機又は金属積層体とその作製方法
技術分野 機械・加工
機能 材料・素材の製造
適用製品 基板上にナノレベルの厚さのポリマ有機層、無機または金属層とを交互に積層されてなる有機・無機積層体
目的 ナノレベルでの均一性を有した有機・無機積層体の提供。
効果 従来では不可能とされていた揮発成分を含む有機層を含む積層体(有機/無機、有機/金属、有機/無機/金属積層体)を作製でき、無泡により光干渉性やガスバリア性、耐湿性を発現できれば、有機発光デバイス(OLEDs)やフレキシブルディスプレイの封止材、反射防止積層膜、積層集積回路の絶縁ナノ積層膜への応用が期待される。
技術概要
この技術は、基板上にナノレベルの厚さのポリマ有機層と、無機または金属層とを交互に積層されてなる有機・無機積層体または有機/金属積層体であって、そのポリマ有機層が無泡であることを特徴とする。また、上記の有機・無機積層体または有機/金属積層体を製造する方法であって、基板上にモノマ有機層を形成し、その上に、無機又は金属層を形成した後、基板を加熱して前記モノマ有機層を架橋してポリマ有機層にするにあたり、以下ので求まるKが33未満であることを特徴とする。10↑(−16)t↓c↑2t↓p↑2T↓s↑4T↓iv{0.01/(0.01−P)}=K。式中t↓c(nm):無機又は金属層の膜厚、t↓p(nm):モノマ有機層の膜厚、T↓s(℃):ポリマ有機層の成膜開始時の基板温度、T↓i(℃):ポリマ硬化温度、v(℃/min):昇温速度、P(MPa):バギング使用時の真空ゲージ圧(バギングを行わない場合は、P=0とした)。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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