光学分析用チップとその製造方法、光学分析用装置、および光学分析方法

開放特許情報番号
L2011000633
開放特許情報登録日
2011/2/10
最新更新日
2017/12/27

基本情報

出願番号 特願2007-505902
出願日 2006/2/24
出願人 国立研究開発法人物質・材料研究機構
公開番号 WO2006/093055
公開日 2006/9/8
登録番号 特許第4117665号
特許権者 国立研究開発法人物質・材料研究機構
発明の名称 光学分析用チップとその製造方法、光学分析用装置、および光学分析方法
技術分野 電気・電子
機能 機械・部品の製造
適用製品 光学分析用チップ、光学分析方法、ラマン散乱光、蛍光、高調波光
目的 表面プラズモン共鳴を利用し、ラマン散乱光に代表される光信号に基づく分析の高感度化を可能とする分析用チップ、このチップの製造方法、さらにはこのチップを用いた分析用装置と分析方法の提供。
効果 ラマン散乱光、蛍光、高調波光などの光信号に基づく分析の高感度化に寄与することができる。
技術概要
この技術では、負誘電体と、負誘電体の表面に形成された少なくとも1つの溝の内部に配置された、固体状態にある正誘電体と、を備えた光学分析用チップを提供する。また、この光学分析用チップの製造方法であって、予め所定寸法の溝を形成した型を正誘電体に押圧することにより、溝に由来する凸部を正誘電体の表面に形成する工程と、正誘電体の表面に凸部の高さを超える高さにまで負誘電体を形成する工程と、正誘電体の表面の反対側から、負誘電体の表面が露出し、かつ凸部に由来して負誘電体の表面に形成された溝の内部に配置された状態で正誘電体の一部が残存するように、正誘電体の一部を除去する工程と、を含む光学分析用チップの製造方法を提供する。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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