走査照射装置の走査精度検定方法

開放特許情報番号
L2011000622
開放特許情報登録日
2011/2/10
最新更新日
2011/2/10

基本情報

出願番号 特願2007-273050
出願日 2007/10/19
出願人 独立行政法人物質・材料研究機構
公開番号 特開2009-103470
公開日 2009/5/14
発明の名称 走査照射装置の走査精度検定方法
技術分野 電気・電子
機能 検査・検出
適用製品 走査照射装置、走査精度検定方法
目的 微細は領域での測定を得意とする電子線モアレ法を用いた、容易に走査照射装置の走査精度を検定する方法の開発。
効果 粒子線やエネルギー線を走査・照射する装置の走査精度検定を容易に行うことができ、今まで見過ごしてきたほどの微小な誤差も検出することができる。また、平行格子群のずれも拡大して表示できるので、ビームを走査する装置内でのステージの位置合わせなどにも用いることができる。モアレ縞が一致すれば平行直線群がぴたりと合っていることを示し、容易に位置あわせを行うことができる。
技術概要
この技術では、検定試料として、グリッドを形成する材料と基板とが粒子線又はエネルギー線に対する透過性又は反射特性又は電子やイオンの発生特性が異なるようにして、基板にグリッドが形成された基準板に対して、平行にあるいは鋭角な角度を持って粒子線又はエネルギー線を走査状に照射して画像を得る。グリッド作製に際してはフォトリソグラフィー、電子線リソグラフィー、X線リソグラフィー、高精度のX−Yステージを有するレーザー加工機等を用いて作製する。校正すべき装置の能力に見合うグリッドを正確に(高精度で)作製し、これを用いてモアレ縞を発生させることにより走査幅の不均一や不正確さを検定校正する。グリッドの間隔は装置が本来有するべき走査間隔とほぼ同じか若干異なる間隔がよい。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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