フラーレン細線付き基盤とその製造方法

開放特許情報番号
L2011000604
開放特許情報登録日
2011/2/10
最新更新日
2015/10/9

基本情報

出願番号 特願2007-221960
出願日 2007/8/29
出願人 独立行政法人物質・材料研究機構
公開番号 特開2009-051708
公開日 2009/3/12
登録番号 特許第5205672号
特許権者 国立研究開発法人物質・材料研究機構
発明の名称 フラーレン細線付き基盤とその製造方法
技術分野 化学・薬品
機能 材料・素材の製造
適用製品 フラーレン細線付き基盤
目的 フラーレン細線を基盤に対して垂直に配向したフラーレン細線付き基盤とその製造方法の提供。
効果 この技術のフラーレン細線付き基盤によればフラーレン細線は、その長さからすれば基盤から最も離れた位置にまで伸長していることになるので、期待されている各種応用分野において各種材料との接触をもっとも安定して接触でき、期待通りの効果を発揮させることが可能になる。
技術概要
この技術では、基盤の表面に対してフラーレン細線が垂直に配向されていることを特徴とするフラーレン細線付き基盤を提供する。このフラーレン細線付き基盤の製造方法は、基盤である表裏貫通型多孔質体の表面にフラーレン分子を含有した良溶媒を配置し、裏面にフラーレンに対する貧溶媒を配置し、この多孔質体の表裏を貫通する膜孔を通して貧溶媒を良溶媒側に注入することで、膜孔から良溶媒側に向かってフラーレン細線を析出して成長させるものとする。多孔質体は、多孔質膜や、フィルターを用いても良い。孔のサイズは、単層カーボンナノチューブの内径程度の1nm以上の大きさである。孔の空いた物体の孔の長さは、1nm以上の長さとすることができる。孔の配列は、任意の配列でも、幾何学的に整った形でも良い。孔の数は、ひとつ、もしくは、2つ以上である。フラーレンは、C↓(60)、C↓(70)以上の高次フラーレン、原子内包フラーレン、フラーレンの誘導体を用いることができる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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