Ti−Zr−Ni系高温形状記憶合金薄膜とその製造方法

開放特許情報番号
L2011000564
開放特許情報登録日
2011/2/10
最新更新日
2015/10/9

基本情報

出願番号 特願2001-091103
出願日 2001/3/27
出願人 独立行政法人物質・材料研究機構
公開番号 特開2002-285275
公開日 2002/10/3
登録番号 特許第3947788号
特許権者 国立研究開発法人物質・材料研究機構
発明の名称 Ti−Zr−Ni系高温形状記憶合金薄膜とその製造方法
技術分野 金属材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 Ti−Zr−Ni系高温形状記憶合金薄膜、マイクロバルブ、マイクロマシン用アクチュエータ
目的 貴金属を含有しない点でTi−Pd−Ni系合金よりも商業利用に有利で、かつ実用的に十分な機械特性とともに、50℃を超えて、さらには100℃以上の高温でも形状記憶効果を有する新しいTi−Zr−Ni系高温形状記憶合金薄膜とその製造方法の提供。
効果 この技術の合金薄膜によれば高い変態温度と発生力を同時に達成でき、室温以上で安定に作動する形状記憶合金薄膜アクチュエータ素子の作製が可能となるほか、100℃以上の高温においても高発生力・高ストロークの長所を損なうことなく作動する形状記憶合金薄膜アクチュエータ素子を提供することが可能となる。
技術概要
この技術では、Zr含有量が6.5〜30原子%、Ni含有量が40〜50%、残部がTiからなる組成を有するTi−Zr−Ni系形状記憶合金薄膜であって、(Ti,Zr)Ni相とλ↓1相の結晶粒径が各々500nm以下の微細複相組織を有し、微細複相組織は、非晶質のTi−Zr−Ni系合金薄膜を500〜800℃において1時間〜100時間結晶化熱処理することによって形成されたものであることを特徴とするTi−Zr−Ni系高温形状記憶合金薄膜を提供する。このTi−Zr−Ni系高温形状記憶合金薄膜においては、(Ti,Zr)Ni相とλ↓1相との微細複相組織が、350nm以下の結晶粒径の(Ti,Zr)Ni相と、150nm以下の結晶粒径のλ↓1相とにより構成されていることが好ましい。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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