蛍光発光性シリコンナノ粒子とその製造方法

開放特許情報番号
L2011000499
開放特許情報登録日
2011/2/4
最新更新日
2015/10/8

基本情報

出願番号 特願2010-073977
出願日 2010/3/29
出願人 独立行政法人物質・材料研究機構
公開番号 特開2010-254972
公開日 2010/11/11
登録番号 特許第5495038号
特許権者 国立研究開発法人物質・材料研究機構
発明の名称 蛍光発光性シリコンナノ粒子の製造方法
技術分野 無機材料、電気・電子、情報・通信
機能 材料・素材の製造
適用製品 簡便な操作で得られ、イルミネーション器具、ディスプレイ器具、医用工学器具などの工業、産業、医療分野等で広く利用される。
目的 粒子サイズの変動幅(最大直径と最小直径の差)が実質的に0.5nm未満の粒径の揃ったシリコンナノ粒子を提供することであり、またその製造方法を提供する。
効果 従来のものよりも粒子サイズの変動幅が小さく粒揃いなので、それぞれの色を高純度、高輝度に発光させることができる。
技術概要
球状のシリコンナノ粒子2で、その粒径分布を最大直径と最小直径の差で表すときに、これが実質的に0.5nm未満の粒径の揃った蛍光発光性シリコンナノ粒子である。尚、球状のシリコンナノ粒子で、その粒径分布を最大直径と最小直径の差で表すときに、これが実質的に0.5nm未満の粒径の揃った蛍光発光性シリコンナノ粒子の製造方法であって、(1)高周波スパッタリング法及び熱処理の併用により、Si基板1上に、酸化シリコン膜3で被覆されたシリコンナノ粒子を形成し、(2)得られた酸化シリコン膜被覆シリコンナノ粒子付きのSi基板を、フッ酸水溶液4で処理し、基板から酸化シリコン膜被覆シリコンナノ粒子を剥離させると共に酸化シリコン膜を溶解させ、シリコンナノ粒子が分散したフッ酸水溶液を得、そして(3)フッ酸水溶液に分散されたシリコンナノ粒子を、高速遠心と超遠心とを組み合わせた遠心分画により、所望の粒子径(大きさ)範囲に分級する。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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