表面プラズモンによるイオン化を利用した質量分析

開放特許情報番号
L2011000397
開放特許情報登録日
2011/2/4
最新更新日
2011/2/4

基本情報

出願番号 特願2007-249681
出願日 2007/9/26
出願人 公立大学法人首都大学東京
公開番号 特開2009-081055
公開日 2009/4/16
発明の名称 表面プラズモンによるイオン化を利用した質量分析
技術分野 化学・薬品、電気・電子、機械・加工
機能 検査・検出
適用製品 レーザー脱離質量分析法、表面プラズモンによるイオン化を利用した質量分析、マトリックス支援レーザー脱離イオン化質量分析法、金ナノ微粒子分散基板
目的 レーザー脱離イオン化質量分析法において、従来の金ナノ微粒子分散基板を、ミクロな立場で基板表面を観察すると、表面プラズモン励起効率が非常に不均一になっている。例えば、金ナノ微粒子が存在する場所、存在しない場所、共鳴的に高まった場所、そうでない場所が存在する。このような不均一性は、質量分析測定において再現性を損なわせるものである。そこで、金ナノ微粒子が一様に配列した基板とし再現性を高める方法を提供する。
効果 この方法による最密充填基板においては、分散基板に比べて表面プラズモン励起効率は劣るが、金ナノ微粒子が一様に配列しているため、測定結果がレーザー照射位置に左右されない。このため、測定結果の安定性、再現性、定量性に非常に優れている。
技術概要
マトリックス支援レーザー脱離イオン化質量分析法などに代表されるレーザー脱離イオン化質量分析法において、金属微粒子を均一に分散配置した基板上に試料を付着し、この試料の付着した基板にレーザー光を照射することにより試料をイオン化し、質量分析することからなるレーザー脱離質量分析法である。基板への微粒子の分散配置を、粒子径の揃った金属ナノ微粒子の分散溶液を用いて、金属ナノ微粒子を2次元最密充填させて基板を形成し、質量分析を行うものである。微粒子としては、表面プラズモンを励起できる金属種であれば良く、銀や銅のナノ微粒子などでも可能であるが、金ナノ微粒子が好ましい。図は、シリコン基板上に金ナノ微粒子が均一に配置されている状況の平面図を示すもので、レーザー光の照射視野は、位置に依存せずほぼ均一に金ナノ微粒子を収めているので、レーザー光がどの位置に照射されても一定の試料のイオン化が再現性よく行われ、定量的評価を可能とするものである。これに対し、従来のもの(比較図)は、金ナノ微粒子が不均一に分散しているので、金ナノ微粒子に付着している試料がどの程度イオン化するのかが定まらない。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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