ヘキサヒドロキシジフェノイル化合物

開放特許情報番号
L2011000181
開放特許情報登録日
2011/1/21
最新更新日
2014/3/27

基本情報

出願番号 特願2008-287597
出願日 2008/11/10
出願人 学校法人関西学院
公開番号 特開2009-132707
公開日 2009/6/18
登録番号 特許第5448420号
特許権者 学校法人関西学院
発明の名称 ヘキサヒドロキシジフェノイル化合物
技術分野 化学・薬品
機能 材料・素材の製造
適用製品 ヘキサヒドロキシジフェノイル化合物
目的 有機合成により大量製造が可能な新規エラジタンニン類縁体を提供する。
効果 このヘキサヒドロキシジフェノイル化合物は、分子内にHHDP(ヘキサヒドロキシジフェノイル)基を有し、単一の軸不斉を持っていることから、各種医薬品、例えば、抗菌剤、抗腫瘍剤等の他、抗酸化剤、金属触媒のリガンド等の各種用途に使用できる。又、このヘキサヒドロキシジフェノイル化合物は、有機化学合成により容易に且つ大量に製造され得るので、工業的な利用価値が極めて高い。
技術概要
式(I)で示す、光学活性なヘキサヒドロキシジフェノイル化合物である。式中、R↑1は、フェノール性水酸基の保護基を示す。R↑2は、R↑3O−基又はR↑4OCH↓2−基を示す。R↑3、R↑4は、各々水酸基の保護基を示す。nは1又は0を示す。但し、nが1を示す場合、R↑2はR↑3O−基を示し、nが0を示す場合、R↑2はR↑4OCH↓2−基を示す。式(I)で示す化合物には、式(Ia)、式(Ib)、式(Ic)及び式(Id)で表されるヘキサヒドロキシジフェノイル化合物が包含される。(Ia)で示す化合物は、例えば、反応式−1に示すようにして製造される。式(II)で示す化合物と式(III)で示す化合物とをエステル化反応させ、次いで得られる式(IV)で示す化合物を脱メトキシメチル化し、更に得られる式(V)で示す化合物をカップリング反応させて製造する。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【可】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 学校法人関西学院

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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