電磁波波面整形素子及びそれを備えた電磁波イメージング装置、並びに電磁波イメージング方法

開放特許情報番号
L2011000036
開放特許情報登録日
2011/1/7
最新更新日
2012/3/9

基本情報

出願番号 特願2010-044794
出願日 2010/3/1
出願人 国立大学法人 岡山大学
公開番号 特開2011-179989
公開日 2011/9/15
登録番号 特許第4534027号
特許権者 国立大学法人 岡山大学
発明の名称 電磁波波面整形素子及びそれを備えた電磁波イメージング装置、並びに電磁波イメージング方法
技術分野 情報・通信、電気・電子、生活・文化
機能 検査・検出、機械・部品の製造、安全・福祉対策
適用製品 薬物非破壊検査装置、タンパク質分析装置など
目的 この発明は、電磁波によるイメージングを高速に行うための電磁波波面整形素子及びそれを備えた電磁波イメージング装置、並びに電磁波イメージング方法を提供する。
効果 この発明の電磁波イメージング装置によると、素子自体がアレイ状になり、電磁波を発生しながら波面整形を行うことができるため、波面整形用のフィルターを通過させる必要がない。また、発生する電磁波の放射強度や放射方向を電気的に制御することが可能であるため、リアルタイムに波面整形を行いながら検査対象物への走査をすることが可能となり、電磁波可視化速度を飛躍的に向上することができる。
技術概要
テラヘルツ(THz)周波数帯を利用する技術の急速な発展に伴い、多岐にわたる産業分野へのテラヘルツ波を応用した技術開発が進展しており、同時に様々なTHzコンポーネントへの需要が拡大している。しかし、イメージング装置においては、試料にテラヘルツ波を放射するに際し、異なる波面(変調)パターンを得るためには、マスクを機械的に交換する必要がある。そのため、イメージングによる計測速度が低下するという問題点があった。この発明の電磁波イメージング装置は、電磁波に対して波面整形を行うための電磁波波面整形素子であって、半導体と、その上に形成される絶縁体と、その上にアレイ状に形成される複数の電極と、複数の電極と半導体との各間に所定の印加電圧をそれぞれ付与するとともに、印加電圧をそれぞれ制御するための電圧印加手段と、を具備し、半導体にパルスレーザー光が入射した際に、電圧印加手段により、印加電圧をそれぞれ制御することで、印加電圧が付与された電極に対応する半導体のパルスレーザー光入射面から発生する電磁波の放射強度を制御する。
イメージ図
実施実績 【試作】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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