ジハロゲン化物、高分子化合物及びその製造方法

開放特許情報番号
L2011000033
開放特許情報登録日
2011/1/7
最新更新日
2011/1/7

基本情報

出願番号 特願2005-518020
出願日 2005/2/15
出願人 国立大学法人東京工業大学
公開番号 WO2005/078002
公開日 2005/8/25
登録番号 特許第4534044号
特許権者 国立大学法人東京工業大学
発明の名称 ジハロゲン化物、高分子化合物及びその製造方法
技術分野 有機材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 9,10‐ジヒドロフェナントレンのジハロゲン化物、9,10‐ジヒドロフェナントレンのジハロゲン化物の重縮合物、溶媒可溶性ポリ(9,10‐ジヒドロフェナントレン‐2,7‐ジイル)、熱安定性・蛍光性・電気化学的活性を有するポリフェニレン系ポリマー
目的 近年、芳香族系高分子化合物は耐熱性、電気化学的活性、蛍光を有する材料として注目されている。ポリパラフェニレン系高分子については、高い耐熱性が期待されるポリ(9,10-ジヒドロフェナントレン-2,7-ジイルも合成されてきた。しかし、これまでに開発されたものは、溶媒に不溶であるため、成形性が限られる、等の制約が生じている。そこで、可溶化させるための適切な置換基を導入した機能性材料としての用途が期待できる新規なポリ(9,10-ジヒドロフェナントレン-2,7-ジイル) とその製造方法を提供する。
効果 このジハロゲン化物によれば、有用な共役高分子化合物を、電気化学的、工学的機能材料として提供し得る。この高分子化合物及び高分子化合物の製造方法によれば、可溶性のために成形性を有し、熱安定性、蛍光性、電気化学的活性を有する新たなポリフェニレン系ポリマーを簡便に提供することができる。アルキル基や置換基を有するシリル基を選択し、溶媒に溶解させた後にキャストする方法などによって薄膜を得ることができる。
技術概要
一般式で示されるジハロゲン化物(式中、R↑1、R↑1↑'は、ハロゲンを示し、R↑2、R↑2↑'は、置換基を有するシリル基を示し、R↑3、R↑3↑'は、水素又はアルキル基を示す)、並びに、このジハロゲン化物を脱ハロゲン化して重合することにより得られる、一般式で示される構造を主鎖内に有する重合物又は共重合物が提供される。脱ハロゲン化重合は、パラジウム化合物またはニッケル化合物の存在下で行なわれる。高分子化合物の分子量は、用途により特に限定されないが、重量平均分子量で、1000以上が好ましく、さらには3000〜100000であることが好ましい。この高分子化合物は、クロロホルムなどの有機溶媒に溶解性を示すことから、高分子化合物の溶液をガラスなどの基板上に塗布することが容易になる。この高分子化合物は、電気化学的に活性で、蛍光を有し、耐熱性等を有する機能材料などとして有用である。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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