粒子線照射装置及び治療計画装置

開放特許情報番号
L2010006453
開放特許情報登録日
2010/12/24
最新更新日
2010/12/24

基本情報

出願番号 特願2008-197706
出願日 2008/7/31
出願人 独立行政法人放射線医学総合研究所
公開番号 特開2010-029594
公開日 2010/2/12
発明の名称 粒子線照射装置及び治療計画装置
技術分野 電気・電子、生活・文化
機能 制御・ソフトウェア、安全・福祉対策
適用製品 粒子線、スキャニング照射
目的 粒子線を被検体にスキャニング照射する際に用いる治療計画装置において、照射可能な複数のビーム形状を記憶するための手段と、線量分布に応じて、スキャニング途中でビーム形状を変更するように設定するための手段と、を備えたことを特徴とする治療計画装置の提供。
効果 本技術によれば、アイソセンターでのビーム形状(例えばスポットサイズ)を、スキャニング途中で変更することにより、照射野半影帯を縮小して、正常組織への線量寄与を減少することができる。
技術概要
この技術では、加速器からのビームの形状を、エネルギ変調装置(リッジフィルタ)、コリメータ、電磁石、散乱体、スリット等を含んで構成されるビーム形状変調装置で変更し、形状変更後のビームを、走査電磁石で走査し、例えば、線量モニタを介して患者に照射する。ここで、ビームのスポットサイズ・形状を変更するために、ビーム形状変調装置には、コリメータとコリメータ制御装置が設けられており、このコリメータ制御装置を制御することによって、スキャニングの途中でビームのスポットサイズ及び断面形状が変更される。形状変更後のビームは、X方向及びY方向の走査電磁石で走査される。又、ビームの断面形状を変更するために、例えば2種類の厚さを持つ散乱体と、そのビームへの挿入位置を制御するための散乱体制御装置を設けることができる。この場合には、薄い散乱体を挿入してビームの深さ方向ピーク形状を鋭くしたり、厚い散乱体を挿入してビーム径を大きくすることができる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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