シラフルオレン誘導体の製造方法

開放特許情報番号
L2010006363
開放特許情報登録日
2010/12/10
最新更新日
2014/10/22

基本情報

出願番号 特願2010-053857
出願日 2010/3/10
出願人 国立大学法人 岡山大学
公開番号 特開2011-184410
公開日 2011/9/22
登録番号 特許第5594762号
特許権者 国立大学法人 岡山大学
発明の名称 シラフルオレン誘導体の製造方法
技術分野 有機材料、電気・電子
機能 材料・素材の製造
適用製品 シラフルオレン誘導体、ケイ素架橋シラフルオレン、有機エレクトロルミネッセンス素子材料
目的 有機EL材料の構成要素として、芳香環同士がケイ素で架橋された分子が利用されており、そのひとつとして、ケイ素架橋シラフルオレンの利用が期待されている。一般に、従来のシラフルオレンの合成には、原料となる化合物内に余分な置換基を必要としていたため、煩雑で高コストな製造プロセスとなり、また、副生成物の処理と環境への負荷が問題となっている。そこで、より安価で簡便かつ、副生成物による環境への負荷が少ない製造方法を提供する。
効果 このシラフルオレン誘導体の製造方法は、2−ヒドロシリルビフェニルの脱水素反応を行うことによって、シラフルオレンを合成するものであり、水素以外の不可避的不純物を除く副生成物の発生を生じせしめないため、従来手法に比べ、シラフルオレン誘導体の合成を有利にかつ高収率で製造し得る。
技術概要
このシラフルオレン誘導体の製造方法は、触媒の存在下に、構造式(1)で示される2−ヒドロシリルビフェニルまたはその置換体を脱水素反応させることにより構造式(2)で示されるシラフルオレン誘導体を得ることからなる。ここで、触媒は、好ましくは、マンガン、テクネチウム、レニウム、鉄、ルテニウム、オスニウム、コバルト、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウムおよび白金から選ばれた金属の化合物、例えば、RhCl(PPh↓3)↓3、PtO↓2等である。構造式(1)で示される2−ヒドロシリルビフェニルまたはその置換体の具体例として、2−ジメチルヒドロシリルビフェニル、2−ジエチルヒドロシリルビフェニル、2−ジイソプロピルヒドロシリルビフェニル、2−メチルフェニルヒドロシリルビフェニル、2−ジメチルヒドロシリル−3−メチルビフェニル、2−ジメチルヒドロシリル−2’−メチルビフェニル、2−ジメチルヒドロシリル−4’−トリフルオロメチルビフェニル、2−ジメチルヒドロシリル−4’−メトキシビフェニル、2−(2−ジメチルシリルフェニル)ナフタレン等が挙げられる。図にシラフルオレン誘導体の合成例を示す。
実施実績 【試作】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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