研磨方法及び研磨装置

開放特許情報番号
L2010006143
開放特許情報登録日
2010/12/3
最新更新日
2011/7/1

基本情報

出願番号 特願2007-547959
出願日 2006/11/29
出願人 国立大学法人埼玉大学
公開番号 WO2007/063873
公開日 2007/6/7
登録番号 特許第4752072号
特許権者 国立大学法人埼玉大学
発明の名称 研磨方法及び研磨装置
技術分野 機械・加工
機能 表面処理
適用製品 鏡面研磨、研磨方法、研磨装置、炭化珪素、サファイア
目的 SiCやサファイアのような難加工材を高能率で、かつ、高品位の面に研磨することができる研磨方法の提供。
効果 この技術の研磨方法及び研磨装置では、SiCやサファイアのような難加工材を対象とする場合でも、高能率、かつ、高品位での研磨が可能である。
技術概要
この技術では、酸素を含む加工雰囲気の圧力が制御できる容器の中で、活性酸素を発生させながら、被加工物を研磨する。また、酸素を含む加工雰囲気の圧力を大気圧よりも高く設定し、加工雰囲気の中で、光触媒を含むスラリーを用いて、紫外線を照射しながら被加工物を研磨する。また、炭化珪素、サファイア、窒化珪素、または、窒化ガリウムの結晶を被加工物とすることができる。また、光触媒としてチタニア(TiO2)の粒子を用い、スラリー中のTiO2の含有量を0.1wt%から10.0wt%の範囲内に設定する。また、紫外線の強度を5mW/cm↑2以上に設定する。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
Copyright © 2018 INPIT