| 出願番号 |
特願2007-547959 |
| 出願日 |
2006/11/29 |
| 出願人 |
国立大学法人埼玉大学 |
| 公開番号 |
WO2007/063873 |
| 公開日 |
2007/6/7 |
| 登録番号 |
特許第4752072号 |
| 特許権者 |
国立大学法人埼玉大学 |
| 発明の名称 |
研磨方法及び研磨装置 |
| 技術分野 |
機械・加工 |
| 機能 |
表面処理 |
| 適用製品 |
鏡面研磨、研磨方法、研磨装置、炭化珪素、サファイア |
| 目的 |
ＳｉＣやサファイアのような難加工材を高能率で、かつ、高品位の面に研磨することができる研磨方法の提供。 |
| 効果 |
この技術の研磨方法及び研磨装置では、ＳｉＣやサファイアのような難加工材を対象とする場合でも、高能率、かつ、高品位での研磨が可能である。 |
技術概要
 |
この技術では、酸素を含む加工雰囲気の圧力が制御できる容器の中で、活性酸素を発生させながら、被加工物を研磨する。また、酸素を含む加工雰囲気の圧力を大気圧よりも高く設定し、加工雰囲気の中で、光触媒を含むスラリーを用いて、紫外線を照射しながら被加工物を研磨する。また、炭化珪素、サファイア、窒化珪素、または、窒化ガリウムの結晶を被加工物とすることができる。また、光触媒としてチタニア（ＴｉＯ２）の粒子を用い、スラリー中のＴｉＯ２の含有量を０．１ｗｔ％から１０．０ｗｔ％の範囲内に設定する。また、紫外線の強度を５ｍＷ／ｃｍ↑２以上に設定する。 |
| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
|
| 特許権実施許諾 |
【可】
|
)