有機ラジカル種の製造方法、並びに造影剤の製造方法及び造影剤

開放特許情報番号
L2010006001
開放特許情報登録日
2010/11/19
最新更新日
2015/10/26

基本情報

出願番号 特願2009-021568
出願日 2009/2/2
出願人 独立行政法人日本原子力研究開発機構
公開番号 特開2010-175505
公開日 2010/8/12
登録番号 特許第5224461号
特許権者 国立研究開発法人日本原子力研究開発機構
発明の名称 造影剤の製造方法
技術分野 化学・薬品、有機材料、その他
機能 検査・検出、材料・素材の製造、その他
適用製品 NMR装置、分析機器、核磁気共鳴装置
目的 この発明は、NMR信号の感度を向上させ、毒性が低く、造影作用が持続する、動的核スピン偏極法を用いた造影剤とその製造方法を提供する。
効果 この発明によれば、これまで煩雑な手法でしか得られなかった、溶融時に消失するために核スピンの脱偏極や動物試料に対し害を与えることのないラジカルを、大量に発生させることができる。したがって、NMR信号検出感度が極めて高い造影剤を得ることができる。
技術概要
原子核の磁気モーメントを核スピンと呼び、NMRでは核スピンのエネルギー吸収・放出過程を観測する。通常は、共鳴周波数の電磁波を停止した直後の核スピン放出エネルギーをサーチコイルで電気信号として検出し、検出された電気信号をNMR信号としている。NMRは、生体診断や分子構造解析などにおいて有用とされているが、NMR信号の検出感度が低いといった本質的な欠点を有しているため、NMR信号の検出感度向上に関する種々の技術開発が行われている。その方法として、安定ラジカルを混入させる方法、電子線照射により極低温固体試料中にラジカルを発生させる方法、ペンタセンなどの光励起スピン三重項を用いる方法などが検討されているがまだ十なものは得られていない。この発明では、ブタノールなどの有機溶媒中に0.1〜1Wt%のフェノールを光解離性分子として添加し、極低温下で紫外線を照射し、多数の有機ラジカルを発生させるようにしたものである。光解離性分子は、紫外線照射によって有機溶媒から水素原子を引き抜き、炭素の部位に不対電子を持つラジカルを作る。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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