フォトクロミック物質及びその製造方法

開放特許情報番号
L2010005879
開放特許情報登録日
2010/11/12
最新更新日
2015/10/1

基本情報

出願番号 特願2010-174727
出願日 2010/8/3
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2011-132493
公開日 2011/7/7
登録番号 特許第5633845号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 フォトクロミック物質及びその製造方法
技術分野 化学・薬品、無機材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 フォトクロミック物質
目的 化学的、熱的に安定を有し、且つ可視光によってフォトクロミズムを示すフォトクロミック材料を提供する。
効果 より毒性が低く、化学的、熱的に安定を有し、且つ可視光によってフォトクロミズムを示すフォトクロミック材料を提供できる。
技術概要
 
式:Ba↓(↓a↓−↓b↓)Ca↓bMg↓cSi↓dO↓eM↓fで表される組成を有する物質であり、この物質を構成する各元素を含む原料とホウ酸との混合物を焼成する工程を含む方法によって得る。式中、1.8≦a≦2.2、0≦b≦0.1、1.4≦c≦3.5、1.8≦d≦2.2、e=(a+c+2d)であり、Mは、Eu、Nd、Li、S、C、Ti、Al、V、Mn、Cr、Fe、Cu、Ni、Co、Ge、Zn、Ga、Zr、Y、Nb、In、Ag、Mo、Sn、Sb、Bi、Ta、W、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Gd、Eu、Er、Ho、Tb、Tm、Yb、Lu、P、Cd、及びPbから選ぶ1つ以上の元素であり、0≦fである。更に、cが、2.5≦b≦3の範囲内である。好ましくは、Mが、Fe及びCuから選ぶ1つ以上の元素であり、0<fである。好ましくは、MがNdであり、0<f≦1である。更に、fが0である物質である。焼成する工程を、還元雰囲気下で行う。好ましくは焼成する工程を、水素ガス存在下で行う。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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