β−ヒドロキシカルボニル化合物の製法

開放特許情報番号
L2010005831
開放特許情報登録日
2010/11/5
最新更新日
2015/10/2

基本情報

出願番号 特願2009-059249
出願日 2009/3/12
出願人 独立行政法人科学技術振興機構
公開番号 特開2010-207766
公開日 2010/9/24
登録番号 特許第5004138号
特許権者 国立研究開発法人科学技術振興機構
発明の名称 β−ヒドロキシカルボニル化合物の製法
技術分野 化学・薬品
機能 材料・素材の製造
適用製品 β−ヒドロキシカルボニル化合物
目的 ケトンを反応基質として用いて光学活性β−ヒドロキシカルボニル化合物を合成することのできる触媒及びこの触媒を用いて不斉アルドール反応により光学活性β−ヒドロキシカルボニル化合物を合成する方法を提供する。
効果 この触媒と製法により、反応基質としてカルボニル化合物を用いることのできる不斉アルドール反応系を可能とした。反応基質であるカルボニル化合物をシリルエノラートに変換して、アルドール反応を行う必要がないため、反応工程の簡略化が可能となった。
技術概要
式1で示す配位子又はその対称体、M(XR↑3)↓3又はMY↓3で表されるルイス酸化合物、界面活性剤、及び塩基を混合させて得られる触媒である。式中、R↑1、R↑2は、フェニル基等、mは2〜4の整数、MはSc、Y又はランタノイド元素、Xは−OSO↓2等、R↑3は、炭化水素基、Yはハロゲン原子、OAc等を表す。界面活性剤は、陰イオン性界面活性剤であり、式:R↑8SO↓3M’又は式:R↑8OSO↓3M’(式中、R↑8は直鎖炭化水素基、M’はアルカリ金属)で示すスルホン酸塩又は硫酸エステル塩である。塩基は、水酸化アルカリ金属又はアミンである。好ましくは、塩基は、NR↑9↓3(式中、R↑9は、直鎖アルキレン基等)で示す3級アミン、又は脂肪族、芳香族の5員環、6員環の含窒素複素環化合物である。この触媒の存在下で、式2で示すカルボニル化合物と式:R↑7CHOで示すアルデヒド化合物とを反応した式3で示すβ−ヒドロキシカルボニル化合物の製法である。式中、R↑4は、脂肪族炭化水素基等、R↑5、R↑6は、水素原子、脂肪族炭化水素基等、R↑7は、水素原子、脂肪族炭化水素等を表す。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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