| 出願番号 |
特願2012-523819 |
| 出願日 |
2011/6/27 |
| 出願人 |
国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
| 公開番号 |
WO2012/005132 |
| 公開日 |
2012/1/12 |
| 登録番号 |
特許第5637402号 |
| 特許権者 |
国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
| 発明の名称 |
プラズマ照射処理装置 |
| 技術分野 |
化学・薬品、電気・電子、金属材料 |
| 機能 |
機械・部品の製造 |
| 適用製品 |
プラズマ照射処理装置 |
| 目的 |
被照射体に放電が起こる危険性がなく、プラズマ発生開始を容易にかつ確実に行うことができ、マイルドなプラズマジェットの状態が変動することなく安定に維持されるプラズマ照射処理装置を提供する。 |
| 効果 |
被照射体に放電が起こる危険性がなく、プラズマ発生開始を容易にかつ確実に行うことができ、マイルドなプラズマジェットの状態は変動することなく安定に維持される。 |
技術概要
 |
プラズマ噴出部につながる長穴を有した誘電体などの絶縁物と、トリガー兼安定用電極と、強電界用電極が取り付けられた（Ａ）プラズマ始動・安定部、及び前記長穴を有する絶縁物と、運転時の主たるプラズマ生成を行うプラズマ生成用電極が取り付けられた（Ｂ）プラズマ生成部から構成されるプラズマ照射処理装置であって、トリガー兼安定用電極、強電界用電極、及びプラズマ生成用電極が、上流からガスが通過し、プラズマを始動し、プラズマを生成し、かつプラズマジェットを噴出する一つ以上の長穴内の全ての空間に対して、全ての電極が一切露出せず誘電体により覆われて設けられている。 |
| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
|
| 特許権実施許諾 |
【可】
|
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