光学活性なブテノライド類の製造方法

開放特許情報番号
L2010005449
開放特許情報登録日
2010/9/24
最新更新日
2010/12/3

基本情報

出願番号 特願2003-316517
出願日 2003/9/9
出願人 九州大学長
公開番号 特開2004-277399
公開日 2004/10/7
登録番号 特許第3991104号
特許権者 国立大学法人九州大学
発明の名称 光学活性なブテノライド類の製造方法
技術分野 化学・薬品
機能 材料・素材の製造
適用製品 医農薬品の合成
目的 光学活性な6−ヒドロキシ−ブテノライド類を生成できる新規な製造方法の提供。
効果 本技術の方法によれば、フラン類及びアルデヒド類から高いエナンチオ選択性でブテノライド類を製造することができ、光学活性なブテノライド類は、医農薬品の合成における、キラルなビルディングブロックとして有用である。
技術概要
本技術は、特定のCr(サレン)錯体を触媒として使用することにより、特定のフラン類から光学活性なブテノライド類を製造でき、ブテノライド類は容易に6−ヒドロキシ−ブテノライド類に変換できることを見出し、完成させるに至った。即ち、本技術の光学活性なブテノライド類の製造方法は、溶媒中で、式(I)又は式(II)で表されるCr(サレン)錯体を触媒として使用し、式(III)で表されるフラン類を式(IV)で表されるアルデヒド類に付加させる工程を含むことを特徴とする。式(I)及び式(II)において、Ar↑1は、それぞれ独立して炭素数10〜16のアリール基を表し、X↑−は一価の陰イオンを表す。式(III)中、R↑1は、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、又はt−ブチルジメチルシリル基を示す。式(IV)中、R↑2は、炭素数1〜20の直鎖若しくは分岐のアルキル基、炭素数3〜20のシクロアルキル基、炭素数6〜15のアリール基、又は炭素数7〜15のアラルキル基を示す。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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