光学活性なスルホキシド化合物の製造方法

開放特許情報番号
L2010005446
開放特許情報登録日
2010/9/24
最新更新日
2010/9/24

基本情報

出願番号 特願2003-122404
出願日 2003/4/25
出願人 国立大学法人九州大学
公開番号 特開2004-323445
公開日 2004/11/18
登録番号 特許第3962813号
特許権者 国立大学法人九州大学
発明の名称 光学活性なスルホキシド化合物の製造方法
技術分野 化学・薬品
機能 材料・素材の製造
適用製品 Nb(サレン)錯体、医農薬品の合成
目的 ニオブ錯体を触媒として用い、スルフィド化合物を不斉酸化して光学活性なスルホキシド化合物を製造する方法の提供。
効果 本技術の方法によれば、特定構造のサレン配位子を有するNb錯体を触媒として、スルフィド化合物を酸化剤で不斉酸化することにより、光学活性なスルホキシド化合物を製造することができる。そのため、特に医農薬品の合成において有用である。
技術概要
本技術は、特定の構造を有するサレンを配位子としたニオブ錯体を触媒として用いることにより、スルフィドの不斉酸化反応が高いエナンチオ選択性で進行し、その結果、光学活性なスルホキシド化合物が得られることを見出し、完成させるに至った。即ち、本技術の光学活性なスルホキシド化合物の製造方法は、Nbを中心金属とし、式(I)及び式(II)の何れかで表される化合物を配位子とするNb(サレン)錯体を触媒として使用し、スルフィド化合物を尿素−過酸化水素付加物(UHP)で不斉酸化する光学活性なスルホキシド化合物の製造方法である。[式(I)、式(II)において、R↑1はそれぞれ独立して水素、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜4のアルキル基、又は炭素数1〜4のアルコキシ基を示す。]ここで、式(I)〜式(VI)中のR↑1がフェニル基及び3,5−ジメチルフェニル基からなる群から選択されるのが好ましい。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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