電子顕微鏡用試料作製方法

開放特許情報番号
L2010005422
開放特許情報登録日
2010/9/17
最新更新日
2015/10/1

基本情報

出願番号 特願2010-135634
出願日 2010/6/15
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2012-002552
公開日 2012/1/5
登録番号 特許第5321918号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 電子顕微鏡用試料作製方法
技術分野 電気・電子
機能 機械・部品の製造、材料・素材の製造
適用製品 透過型電子顕微鏡(TEM)、半導体材料開発
目的 金微粒子を針状試料上に分散付着させるのに好適な作製方法の提供を目的とする。 また、金微粒子を付着させる領域(マーカー領域)と付着させない領域(観察領域)とを分離することを目的とする。
効果 電子顕微鏡用試料は、金微粒子が付着していない領域である観察領域と、金微粒子が付着している先端部領域とを有しているので、試料観察に際して、金微粒子が電子線の透過を防ぐことがないので、正確な試料の三次元像を得ることができる。 この方法を用いることで、TEMトモグラフィーの試料作製の成功率が向上し、TEMトモグラフィーの精度が高まり、結果として実用性が高まる。
技術概要
試料を集束イオンビームで針状試料に形成加工する際に、試料からマスクを形成加工することを特徴とする。 マスクは、針状試料に金微粒子を蒸着する際に、金微粒子を選択的に遮蔽する位置に設けられていることを特徴とする。針状形状とマスクの形成加工工程後、蒸着装置内で、マスクにより、金微粒子を付着させる領域と付着させない領域を分離させるよう蒸着する。金微粒子を付着させる領域が、針状先端部の保護膜であり、金微粒子を付着させない領域が電子顕微鏡の観察領域であることが好ましい。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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