スメクティックエアロゲル及びその作製方法

開放特許情報番号
L2010005409
開放特許情報登録日
2010/9/17
最新更新日
2018/1/23

基本情報

出願番号 特願2008-549230
出願日 2007/11/16
出願人 国立研究開発法人科学技術振興機構
公開番号 WO2008/072445
公開日 2008/6/19
登録番号 特許第5213121号
特許権者 国立研究開発法人科学技術振興機構
発明の名称 スメクティックエアロゲル及びその作製方法
技術分野 有機材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 スメクティックエアロゲル、メゾ多孔質の固体材料
目的 現行のエアロゲルでは、ホスト材料はフラクタル様の構造を形成し、気体がこの網目間に捕捉されている。また、現行のエアロゲルは非常に脆弱である。そこで、スメクティック液晶とUV硬化材料の混合物からなるホスト材料又はスメクティックUV硬化材料からなるホスト材料を用い、そのホスト材料を選択し、脆弱ではない高品質のスメクティックエアロゲル及びその作製方法を提供する。
効果 このエアロゲルは作製が容易であり、空気セルは規則正しい配列を示し、境界の壁の幅は数スメクティック層(ナノメートル) 程度に小さくすることができる。また、気体は単一の気体セルごとに分離されている。このスメクティックエアロゲル及びその作製方法は、ホスト材料を選択し、脆弱ではない高品質のスメクティックエアロゲルとして利用可能である。このスメクティックエアロゲルは、現行の応用分野において、他の種類のエアロゲル、例えばシリカエアロゲルと置き換えることができる。
技術概要
このスメクティックエアロゲルは、スメクティック相のスメクティック液晶材料とエアロゲル構造を形成した後に永久に固定することができるUV硬化材料とからなるホスト材料を有する。UV硬化材料は、好ましくは、アクリレート又はメチル・アクリレートグループを持つモノマーである。また、このスメクティックエアロゲルは、スメクティック相で、エアロゲル構造を形成した後にUV照射で永久に固定することができるスメクティックUV硬化材料からなるホスト材料を有するものであり得る。このスメクティックエアロゲルの作製方法は、@ホスト材料としてスメクティック液晶を用意する工程と、Aこのスメクティック液晶に紫外線(UV) 硬化性物質を混ぜる工程と、BUV照射によりその材料を硬化させて構造を永久に固定する工程とを含む。いま一つの作製方法は、@ホスト材料としてUV硬化型のスメクティック材料を用意する工程と、AUV照射によりその材料を硬化させて構造を永久に固定する工程とを含む。図は、スメクティックエアロゲル試料の上面図、3次元エアロゲル試料の模式図、空気セル間のスメクティック層の境界の壁の詳細図、及びスメクティックエアロゲルの作製工程の全体模式図である。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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