立体形状測定装置

開放特許情報番号
L2010005290
開放特許情報登録日
2010/9/10
最新更新日
2010/9/10

基本情報

出願番号 特願2001-042062
出願日 2001/2/19
出願人 国立大学法人 香川大学
公開番号 特開2002-243420
公開日 2002/8/28
登録番号 特許第4555925号
特許権者 国立大学法人 香川大学
発明の名称 立体形状測定装置
技術分野 その他
機能 検査・検出
適用製品 立体形状測定装置
目的 被測定物の比較的広い範囲の立体形状を、短時間で、非接触に測定できるようにする。
効果 この立体形状測定装置は光の干渉を利用するものであるため、被測定物の形状をナノメートルオーダーで測定することができる。
技術概要
固定反射部と光軸方向に移動可能な可動反射部とを備えた位相可変フィルタ20と、被測定物の各点から発する0次光を可動反射部又は固定反射部に、高次回折光を固定反射部又は可動反射部に、夫々導く分別光学系と、反射された0次光と反射された高次回折光とを略同一点に導いて干渉させる干渉光学系と、干渉光の強度を測定する受光部22と、可動反射部を光軸方向に移動させつつ、受光部で測定される干渉光の強度変化に基き、被測定物の各点の光軸方向の位置を決定する位置決定部と、を備える立体形状測定装置である。被測定物に光を照射した時の反射光のうち直接反射光(0次光)を分別光学系により位相可変フィルタの可動反射部に、高次回折光を固定反射部に導き、夫々反射した後、干渉光学系により略1点に収束させて両者を干渉させる。このような状態で、位相可変フィルタの可動反射部を、使用する光の波長の範囲内で移動させると、そこで反射される0次光の位相が固定反射部で反射される高次回折光の位相から徐々にずれ、干渉光学系の結像点における両光の干渉光の強度が徐々に変化する。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

導入メリット 【 】
改善効果1 大きな範囲で立体形状を測定することができるとともに、機械的に走査する場合と比較すると極めて短時間で測定を行うことができる。また、非接触で測定を行うため、非常に柔らかい物でも測定を行うことができるとともに、被測定物の硬さ(剛性)に左右されることなく客観性の高い、再現性の良い測定を行うことができる。

登録者情報

登録者名称 国立大学法人香川大学

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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