光学活性なブロック共重合体、その製造方法及びそのブロック共重合体を用いたクロマトグラフィー用充填剤

開放特許情報番号
L2010005137
開放特許情報登録日
2010/9/3
最新更新日
2013/7/19

基本情報

出願番号 特願2007-512527
出願日 2006/3/28
出願人 国立大学法人 奈良先端科学技術大学院大学
公開番号 WO2006/109560
公開日 2006/10/19
登録番号 特許第5263478号
特許権者 国立大学法人 奈良先端科学技術大学院大学
発明の名称 光学活性なブロック共重合体、その製造方法及びそのブロック共重合体を用いたクロマトグラフィー用充填剤
技術分野 有機材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 クロマトグラフィー用固定相、偏光吸収・発光材料、電荷輸送材料
目的 耐加溶媒分解性が十分であると共に、クロマトグラフィー用固定相、偏光吸収・発光材料、電荷輸送材料等として有用な、新規な共重合体、および、特にキラル識別能に優れた、新規なブロック共重合体の製造方法、また、耐加溶媒分解性及びキラル識別能力に優れた、光学異性体分離クロマトグラフィー用充填材の提供。
効果 この技術の共重合体は、従来技術では両立し得なかった耐溶媒性と高いキラル識別能力を併せ有するので、特に超臨界流体クロマトグラフィー(SFC)用キラル固定相、及び、高速液体クロマトグラフィー用キラル固定相に好適である。
技術概要
この技術は、単独重合した場合にらせん状ポリマーを与える嵩高いメタクリル酸エステルと、重合性エキソメチレン基を有する1,1−芳香族環状置換エチレンモノマーとを共重合させてなる、構造式で表わされることを特徴とする光学活性な共重合体を提供する。但し、式中のArは芳香環、R↑1及びR↑2は水素原子、有機基又はヘテロ原子である。R↑3及びR↑4は水素原子、ヘテロ原子又は有機基であり、それぞれ2−4個導入されていても良い。R↑(11)はトリアリールメチル基であって、架橋構造を持っていても良い。m及びnは1以上の整数であり、−X−は、−(CH↓2)q−、芳香族基、ビニル基、ヘテロ原子、又はヘテロ原子を含む基であり、qは0以上の整数である。このような光学活性な共重合体は、特に、キラル識別能力は高いが耐加溶媒分解性が十分ではないらせん状ポリメタクリル酸エステル部分と、耐加溶媒分解性は高いもののキラル識別能力が低いポリジベンゾフルベン誘導体部分とを共重合体の形で結合させた、両者の長所を併せ持つブロック共重合体であることが好ましい。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
Copyright © 2017 INPIT