光干渉を用いた形状測定方法および形状測定装置

開放特許情報番号
L2010004900
開放特許情報登録日
2010/8/27
最新更新日
2010/8/27

基本情報

出願番号 特願2001-267786
出願日 2001/9/4
出願人 金沢大学長
公開番号 特開2003-075134
公開日 2003/3/12
登録番号 特許第3511097号
特許権者 国立大学法人金沢大学
発明の名称 光干渉を用いた形状測定方法および形状測定装置
技術分野 情報・通信、機械・加工、その他
機能 機械・部品の製造、検査・検出、その他
適用製品 形状測定装置
目的 超精密機械部品の製造分野やそれらの品質管理ならびに測定分野あるいはコンピュータの磁気記録部品やLSI基板等の中間加工製品、もしくは液晶基板等の表面形状を、光干渉を用いて、数十ナノメートルから数百マイクロメートルの測定範囲で高精度に計測可能な形状測定装置に関する。 この発明は、測定対象の表面の凹凸形状を、位相シフト法で確保される程度の高い精度で、高速、かつ非接触で測定可能な形状測定装置の提供を目的とする。
効果 微細な凹凸を含む測定対象物の表面形状を、細かい分解能を維持しながら、これまでの数倍〜数十倍の速度で、測定できる。なお、周知の位相シフト法では、達成できていない広い測定範囲が得られる。
技術概要
形状測定は、僅かに波長の異なる2つのフラッシュ光を、それぞれの光路を合成したのち測定対象物に照射し、測定対象物からの反射光と参照鏡からの反射光とにより形成される干渉像の位相値を計算し、この位相値から光路差を求め、その光路差に依存して生じる干渉光パターンから測定対象物の形状を求める方法である。 測定対象物を僅かに波長の異なる2つのフラッシュ光の進行方向に沿って移動可能に位置させた状態で測定対象物に、僅かに波長の異なる2つのフラッシュ光を、相互の照射間隔がt↓1で規定される所定時間間隔で照射する。 その2つの光からの反射光と参照鏡からの反射光とにより生成される干渉光をカメラで撮像する際に、2つのフラッシュ光が繰り返し照射される時間間隔であって所定時間間隔t↓1よりも長い時間間隔t↓2毎に、測定対象物を、2つのフラッシュ光が進行する方向に沿って移動させる位相シフト量を、2nπ(nは、1以上の整数)±π/2を中心とした±π/4以内とする。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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