| 出願番号 |
特願2004-108446 |
| 出願日 |
2004/3/31 |
| 出願人 |
国立大学法人宇都宮大学 |
| 公開番号 |
特開2005-290233 |
| 公開日 |
2005/10/20 |
| 登録番号 |
特許第4189446号 |
| 特許権者 |
国立大学法人宇都宮大学 |
| 発明の名称 |
磁性砥粒及びその製造方法並びに磁気研磨法 |
| 技術分野 |
機械・加工、化学・薬品 |
| 機能 |
材料・素材の製造、表面処理 |
| 適用製品 |
磁性砥粒 |
| 目的 |
より精密な表面加工を可能にする磁性砥粒及びその製造方法並びにその磁性砥粒を利用した磁気研磨法を提供する。 |
| 効果 |
磁性砥粒が扁平状に形成されているので、より精密に加工することが可能となると共に、複雑な形状を有する被加工物を容易に加工することができる。また、より精密に加工することが可能となると共に、複雑な形状を有する被加工物を容易に加工することができる扁平状の磁性砥粒を簡単に形成することができる。 |
技術概要
 |
磁性を有する扁平状の磁性砥粒であって、磁性砥粒をＨｅｙｗｏｏｄの定義を基にした扁平度をｍで表したとき、ｍ＝Ｂ／Ｔの値が１．５以上である磁性砥粒である。但し、Ｂは磁性砥粒の短軸長を表し、１個の磁性砥粒がもっとも安定した状態で水平面上に静止されているとき、同一水平面上に延び、かつ磁性砥粒の表面に接する平行面間の最小距離である。Ｔは磁性砥粒の厚さを表し、１個の磁性砥粒がもっとも安定した状態で水平面上に静止されているとき、水平面に平行で、かつ磁性砥粒の表面に接する平行面間の最大距離である。図１は磁性砥粒を示す図である。図２は磁性砥粒の他の例を示す図である。この磁気研磨法を実施するための磁気研磨装置を図３に示す。この磁気研磨装置は、被加工物である円管２１をその周方向に回転可能に支持する管支持部と、円管２１の外部に配置された磁極２２とから主に構成される。磁極２２は、例えば、その周方向に略９０°間隔で４個、ヨーク２３を介して配置される。これら磁極２２が配置されているヨーク２３は、円管２１の軸方向に往復移動（例えば振幅）可能に設けられ、これにより磁極２２が円管２１の軸方向に振幅される。 |
| イメージ図 |
|
| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
|
| 特許権実施許諾 |
【可】
|
)
)
)