有機薄膜の製造方法及びそれを用いた有機デバイス

開放特許情報番号
L2010004043
開放特許情報登録日
2010/7/16
最新更新日
2015/9/30

基本情報

出願番号 特願2010-045128
出願日 2010/3/2
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2011-181724
公開日 2011/9/15
登録番号 特許第5464586号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 有機薄膜の製造方法及びそれを用いた有機デバイス
技術分野 電気・電子
機能 材料・素材の製造
適用製品 有機半導体材料、ウエットプロセス、有機太陽電池、有機発光素子、有機メモリー
目的 有機半導体材料が可溶性であれば、使用する有機溶媒が限定されることなく、かつ、ドロップキャスト法で製膜した有機半導体薄膜のようにゆっくりと時間をかけて製膜して、結晶性に優れた有機半導体薄膜を、撥水性基板上に、すなわち、基板の表面自由エネルギーによらず、自由に形成する方法の提供。
効果 本技術によれば、溶媒種、基板の親・疎水性を問わず溶液プロセスで有機半導体層を形成することが可能となり、疎水性基板上で応用した場合、電荷トラップのない(少ない)有機トランジスタを作製できる。
技術概要
本技術の薄膜形成プロセス、即ち、「コンタクトキャスト法」では、撥水性基板等の固体基板上に、薄膜形成用溶液を滴下し、その上に、ポリジメチルシロキサン等の剥離性表面を有する弾性体からなるフィルム又は板を接触させ、毛細管現象を利用して溶液を基板全体に広げ、乾固させることにより、乾燥にしたがって生じる溶液の収縮を防いで製膜する。固体基板は、特に制限されるものではなく、シリコン基板、ガラス基板や、ポリエチレンテレフタラート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリカーボネートに代表されるプラスチック基板を用いることができる。固体基板への薄膜形成用溶液の滴下方法は、単純なピペットによる滴下から、インクジェットやディスペンサのような特殊なノズルから滴下する方法等、その手段は特に限定されない。また、薄膜形成用溶液の乾燥手段は、大気中・溶媒雰囲気中・窒素雰囲気中等様々対応でき、ホットプレート、オーブン等で少なくとも150℃まで温度をかけて乾燥させることができる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
Copyright © 2017 INPIT