回折像取得方法、及び荷電粒子線装置

開放特許情報番号
L2010003930
開放特許情報登録日
2010/7/16
最新更新日
2012/12/20

基本情報

出願番号 特願2010-505998
出願日 2009/4/3
出願人 株式会社日立製作所、国立大学法人北海道大学
公開番号 WO2009/123311
公開日 2009/10/8
登録番号 特許第5106627号
特許権者 株式会社日立製作所、国立大学法人北海道大学
発明の名称 回折像取得方法、及び荷電粒子線装置
技術分野 電気・電子、情報・通信
機能 制御・ソフトウェア
適用製品 荷電粒子線装置
目的 回折像面に生じる曲がり、及び/又は歪曲収差の問題を解決できる回折像取得の方法の提供を目的とする。
効果 取得された回折像の歪み(回折像面に生じる曲がり、及び/又は歪曲収差)を補正し、これにより、未知試料の正確な構造の解析を回折像の精密な解析から行なうことが可能となる。
技術概要
荷電粒子線顕微装置は、既知の構造を持つ試料(22)に荷電粒子線を平行に照射して得られる回折像において、試料の構造を反映した回折像のスポット間距離(r)を測定して、回折角度(θ)に依存した試料と検出器間の距離(L)の変化を補正する。 これにより、回折像において光軸からの離軸距離で変化する歪みを補正でき、回折像のスポット位置の正確な解析を行うことにより精度の高い構造解析が可能となった。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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