チタン酸バリウムの製造方法

開放特許情報番号
L2010003655
開放特許情報登録日
2010/6/25
最新更新日
2011/4/15

基本情報

出願番号 特願2001-209516
出願日 2001/7/10
出願人 国立大学法人山梨大学
公開番号 特開2003-026423
公開日 2003/1/29
登録番号 特許第4697836号
特許権者 国立大学法人山梨大学
発明の名称 チタン酸バリウムの製造方法
技術分野 電気・電子、無機材料
機能 機械・部品の製造、材料・素材の製造
適用製品 積層コンデンサー、電子デバイス、欠陥濃度、空洞、電気特性
目的 通常の空気中での熱分解では、中間反応物として炭酸バリウムと酸化チタンを経由するため850℃以上の高温が必要となることが問題点となるため、中間反応物として炭酸バリウムと酸化チタンを経由しないチタン酸バリウム粒子の合成法を確立することが必要であることに鑑み、100nm以下の粒径を持ち、不純物や欠陥のない正方晶又は立方晶構造を有するチタン酸バリウム粒子の製造方法の提供。
効果 得られたチタン酸バリウム微粒子は粒子内部には不純物がなく、また得られたBa/Ti比もほぼ1であり、欠陥のない粒子が得られる。またこのチタン酸バリウム微粒子は720℃以上で急激に粒成長することから、1000℃以下でチタン酸バリウムセラミックスやセラミックス膜を得ることができる。これによって従来1200℃以上で焼成されてきたセラミックスプロセスにおいて、エネルギーを節約でき、装置を小型化できる。このような観点からも、このチタン酸バリウム微粒子は将来の積層コンデンサーや電子デバイスの原料として有望である。
技術概要
この技術では、チタン酸バリウムの製造方法は、蓚酸バリウムチタニル4水和物を酸素雰囲気で加熱する第1の工程、第1の工程により得られた生成物を、減圧下で加熱する第2の工程を含む。ここで、第1の工程の加熱温度は300〜500℃の範囲にあり、第2の工程の加熱温度は550〜800℃の範囲にある場合がある。また、第1の工程では酸素を流し、第2の工程では10↑(−3)Torr以下に減圧する場合がある。第1の工程の加熱は、1〜5時間の範囲にあり、第2の工程の加熱は、0.5〜5時間の範囲にある場合がある。第2の工程により得られた生成物の平均粒径は、10〜100nmの範囲にある場合がある。第2の工程により得られた生成物のBa/Tiは、0.98〜1.02の範囲にある場合がある。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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