光導波路交差構造

開放特許情報番号
L2010003282
開放特許情報登録日
2010/5/28
最新更新日
2015/9/30

基本情報

出願番号 特願2010-034256
出願日 2010/2/19
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2011-170123
公開日 2011/9/1
登録番号 特許第5504476号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 光導波路交差構造
技術分野 情報・通信、機械・加工、電気・電子
機能 機械・部品の製造、材料・素材の製造、制御・ソフトウェア
適用製品 素子間をつなぐ光導波路を交差させなければならない箇所において用いられる光導波路交差構造
目的 この発明は、交差に伴う損失を低減すると共に、端子間の距離を短くすることにより、交差部分を小型化して、PLC上の素子の集積密度を大きくした光導波路を提供する。
効果 この発明の光導波路の交差部は、信号主経路並びにそれに沿った損失を、0.4dB以下にすることが可能である。交差に伴う損失が、このように小さいため、マトリックススイッチのような、信号経路に沿って多数の交差を含む用途に、適用可能である。
技術概要
シリコン細線やシリコンリブ構造は、光通信に用いられる波長1.3〜1.5μmの光に対して、低損失の導波路として機能とすることが知られており、シリコンCMOSプロセスを利用して作製できることから、石英系平面光回路を凌駕する素子の集積性による高機能化を実現する技術として、近年注目を集めている。しかし、従来の光導波路の交差構造は、テーパー導波路を含んだクロス端出力に1.5dB以上の損失が発生じ、また、一対のテーパー導波路を含んだ経路に沿った入力端と出力端の間隔が140μm程度と長くなる。さらに、屈折率の大きな上部クラッドを形成する必要があり、製造工程が複雑になる、などの問題点を有していた。この発明は、両端でそれぞれ第1及び第2の入力端子に接続された第1の導波路と、両端でそれぞれ第1及び第2の出力端子に接続された第2の導波路とを備える。この第1の導波路と第2の導波路は近接して併走する区間を有して、この区間で方向性結合を生じ、第1の入力端子から入力した光は、相対する導波路に移行して、第2の出力端子から出力され、かつ、第2の入力端子から入力した光は、相対する導波路に移行して、第1の出力端子から出力される。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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