高熱安定性を有する機能性フォスファジド

開放特許情報番号
L2010003215
開放特許情報登録日
2010/5/21
最新更新日
2014/4/28

基本情報

出願番号 特願2008-193767
出願日 2008/7/28
出願人 国立大学法人東北大学
公開番号 特開2010-030941
公開日 2010/2/12
登録番号 特許第5481628号
特許権者 国立大学法人東北大学
発明の名称 高熱安定性を有する機能性フォスファジド
技術分野 化学・薬品
機能 材料・素材の製造
適用製品 高熱安定性を有する機能性フォスファジド
目的 多様な置換基を持つフォスファゼンP↓4を合成するのに適した簡便で汎用性の高い合成法を開発して、機能性のフォスファゼンP↓4誘導体を製造する。
効果 フォスファゼンP↓1−H(III)の簡便な合成法が提供され、化合物(III)とPCl↓3から合成したフォスフォニウム塩(IIa)を脱プロトン化し、系中にて発生させたフォスフォリックトリアミド(V)とアジドを反応させることにより、様々な置換基を持つ新規フォスファジドP↓4(I)を合成でき、さらに化合物(I)の置換基Yとして多様な官能基を導入することが可能である。
技術概要
式(図1)(式中、Xは、同一でも互いに異なっていてもよく、それぞれ独立に、ジアルキルアミノ基、ピロリジノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基及びピペラジノ基からなる群から選択されたものである、あるいは、二つのXが一緒になり、Xの間がアルキレン基で架橋されている、アルキレンジアミノ基、N−アルキルアルキレンジアミノ基及びN,NV−ジアルキルアルキレンジアミノ基からなる群から選択されたものであり、Yは、置換されていてもよいアルキル基、ベンジル基以外の、置換されていてもよいアラルキル基、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよい複素環式基及び高分子残基からなる群から選択されたものである)で表されるフォスファジド化合物又はその塩である。Xが、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、又はピロリジノ基であり、Yが、置換されていてもよいフェニル基、ナフチル基、置換されていてもよいフェニルプロピル基、1−メチル−3−フェニルプロピル基、1−アダマンチル基、又はシクロヘキシル基であることが好ましい。図2は各種のフォスファジドP↓4(13)の合成法を示す。
イメージ図
実施実績 【試作】   
許諾実績 【有】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

導入メリット 【改善】
改善効果1 フォスファジドP↓4(I)は触媒活性を示し、t−Bu−P↓4baseによる触媒反応の基質適応範囲の拡大、不斉反応化、また新反応の開発、触媒の回収等への応用などが可能となる。

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【有】
国外 【無】   
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