金型製造方法およびその方法により形成された金型

開放特許情報番号
L2010003133
開放特許情報登録日
2010/4/30
最新更新日
2015/3/2

基本情報

出願番号 特願2010-064194
出願日 2010/3/19
出願人 学校法人早稲田大学
公開番号 特開2011-194720
公開日 2011/10/6
登録番号 特許第5665169号
特許権者 学校法人早稲田大学
発明の名称 金型製造方法およびその方法により形成された金型
技術分野 機械・加工
機能 機械・部品の製造
適用製品 微細構造を有する金型
目的 ナノサイズの微細構造を有する金型を容易に製造することができる金型製造方法およびその方法により形成された金型の提供。
効果 本技術によれば、ナノサイズの微細構造を有する金型を容易に製造することができる。
技術概要
本技術は、微細構造を有した無機薄膜上に金属膜を形成し、金属膜を無機薄膜から分離して金型を形成する金型製造方法において、無機薄膜上にアミノ基、メルカプト基、チオール基、ジスルフィド基、シアノ基、ハロゲン基、スルフォン酸基の1つ以上を含む官能基を有するシランカップリング剤を含有する自己組織化膜を形成するステップと、自己組織化膜上に通電層を形成する通電層形成ステップと通電層上に金属膜を形成するステップとを有することを特徴とする。通電層形成ステップは、自己組織化膜上に金属イオン層を形成するステップと、金属イオン層を還元溶液に浸漬させ還元させるステップと、金属イオン層上に薄膜めっき層を形成するステップとを有することを特徴とする。また、金属イオン層は、Au、Pd、Ag、Pt、Bi、Pbのいずれか1以上を含む溶液に無機薄膜上に形成した自己組織化膜を浸漬させることより形成されることを特徴とする。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

アピール内容 本件は、『早稲田大学技術シーズ集(問合NO.1038)』に掲載されている案件です。

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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