スーパーストラクチャ・ファイバブラッググレーティングの製造方法及び製造装置

開放特許情報番号
L2010002599
開放特許情報登録日
2010/3/26
最新更新日
2010/3/26

基本情報

出願番号 特願2003-279518
出願日 2003/7/25
出願人 沖電気工業株式会社
公開番号 特開2005-043771
公開日 2005/2/17
登録番号 特許第4222141号
特許権者 沖電気工業株式会社
発明の名称 スーパーストラクチャ・ファイバブラッググレーティングの製造方法及び製造装置
技術分野 電気・電子
機能 機械・部品の製造
適用製品 スーパーストラクチャ・ファイバブラッググレーティング 製造装置 製造方法 FBG ファイバブラッググレーティング
目的 光ファイバの幅方向のずれに起因する屈折率変調振幅のばらつきを小さくし、かつ、光ファイバコアの所望の位置に位相シフト部を備えた又は屈折率変調振幅に所望の変化を持たせたブラッグ回折格子を形成することができるファイバブラッググレーティングの製造方法及び製造装置を提供することにある。
効果 位相マスクを交換することなく、光ファイバコアの所望の位置に所望の位相シフト量の位相シフト部を備えた又は屈折率変調振幅に所望の変化を持たせたブラッグ回折格子を形成することができるという効果が得られる。光ファイバコアにブラッグ回折格子を形成すれば、屈折率変調振幅のばらつきを小さくすることができるという効果が得られる。
技術概要
 
OCDM方式の光符号化又は光復号化を行うスーパーストラクチャ・ファイバブラッググレーティングであって、符号の種類に応じた位置に形成される複数の位相シフト部を有するスーパーストラクチャ・ファイバブラッググレーティングの製造方法において、 位相マスク法により紫外レーザ光を感光性光ファイバの長手方向に走査して光ファイバコアに前記光ファイバの長手方向に周期的な屈折率変調を形成する工程と、 前記紫外レーザ光の走査工程と並行して、前記紫外レーザ光の照射位置が前記符号の種類に応じた位置に到達する毎に、前記位相マスク法で使用する位相マスクを前記長手方向に所定距離だけ瞬時に移動させることによって、前記光ファイバコアに形成される周期的な屈折率変調に前記複数の位相シフト部を形成する工程と を有し、 前記位相マスクを前記長手方向に瞬時に移動させるときの前記所定距離が、前記位相マスクの回折格子の周期の1/2よりも小さい値である ことを特徴とするスーパーストラクチャ・ファイバブラッググレーティングの製造方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 沖電気工業株式会社

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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