光重合開始剤組成物及びそれを含む光重合性組成物

開放特許情報番号
L2010002484
開放特許情報登録日
2010/3/26
最新更新日
2010/3/26

基本情報

出願番号 特願2002-166419
出願日 2002/6/7
出願人 昭和電工株式会社
公開番号 特開2004-012820
公開日 2004/1/15
登録番号 特許第4327413号
特許権者 昭和電工株式会社
発明の名称 光重合開始剤組成物及びそれを含む光重合性組成物
技術分野 化学・薬品
機能 材料・素材の製造
適用製品 光重合開始剤組成物及びそれを含む光重合性組成物
目的 高感度で露光部の耐アルカリ現像性、線幅安定性に優れた光重合性組成物及びそれに用いる光重合開始剤組成物を提供する。
効果 この光重合開始剤組成物を用いた光重合性組成物は、露光部の耐アルカリ現像性、線幅安定性に優れている。
技術概要
マロン酸ジメチル、N−アセトアセチルモルホリン、N−アセトアセチル−p−トルイジン、N,N−ジメチルアセトアセトアミドから選ぶ一種以上の化合物と光ラジカル発生剤を含有する光重合開始剤組成物である。光ラジカル発生剤は式に示すヘキサアリールビイミダゾール化合物である。ヘキサアリールビイミダゾール化合物が式1又は式2で示される化合物である。式中、R5、R6、R7は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又はニトロ基、R8〜R12は、水素原子、置換基を有してもよい、アルキル基又はアルコキシ基を表す。R13はハロゲン原子、R14は置換基を有してもよい、アルキル基又はアルコキシ基を表す。光ラジカル発生剤は式3で示される有機ホウ素塩化合物である。式中、R15〜R18は置換基を有していてもよい、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シリル基、複素環基又は脂環式基、Z↑+は任意のカチオンを表す。増感剤は、ベンゾフェノン系化合物、チオキサントン系化合物、アンスラキノン系化合物及びケトクマリン系化合物から選ぶ一種以上である。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

導入メリット 【 】
改善効果1 この光重合開始剤組成物は、ソルダレジスト、エッチングレジスト、フォトレジスト等各種レジストとして使用される光重合性組成物、特にカラー液晶表示素子、カメラ等に使用されるカラーフィルタの製造で用いられるカラーフィルタレジストとして好適に使用される光重合性組成物の光重合開始剤成分として特に有効である。

登録者情報

登録者名称 昭和電工株式会社

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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