親水性シリカ膜の製造方法、親水性シリカ膜ならびに親水性シリカ膜付きのアクリル樹脂基板

開放特許情報番号
L2010002239
開放特許情報登録日
2010/3/19
最新更新日
2012/7/30

基本情報

出願番号 特願2011-539297
出願日 2010/11/8
出願人 国立大学法人信州大学
公開番号 WO2011/055553
公開日 2011/5/12
登録番号 特許第4942057号
特許権者 国立大学法人信州大学
発明の名称 親水性シリカ膜の製造方法および親水性シリカ膜付きのアクリル樹脂基板
技術分野 無機材料、有機材料
機能 材料・素材の製造、表面処理
適用製品 親水性シリカ膜、親水性シリカ膜の製造方法、親水性シリカ膜付きのアクリル樹脂基板
目的 防曇性を付与して光学特性を向上させることを目的に、超親水性のコーティング材料が用いられている。従来、粒子を一切含まないシリカ薄膜で、極めて平滑で光透過性の高い超親水性の薄膜を作製する技術が提案されているが、親水性材料の製造工程で溶媒の制約があり、溶媒の交換プロセスを要し、また製造工程において300℃以上の高温に加熱する工程を必要とするため、このような制約を無くした低コスト化が望まれていた。そこで、低コスト、かつ低温にて、親水性に優れたシリカ膜並びに親水性シリカ膜付きのアクリル樹脂基板を製造する方法を提供する。
効果 後加水分解処理を行うことで親水性に富み、膜厚が小さく、かつ硬度の低いシリカ膜が得られる。後加水分解処理を行わないと、接触角が30度を超えてしまい、後加水分解処理を行った場合と比べて大きく親水性に劣る。この方法によれば、低コストで、低温で、親水性に優れたシリカ膜ならびに親水性シリカ膜付きのアクリル樹脂基板を製造することができる。この製造方法は、防曇性を必要とする基材への成膜に有用である。
技術概要
この親水性シリカ膜の製造方法は、少なくとも、テトラアルキルオルソシリケート、有機溶媒および水を混和して反応させる反応工程と、この反応工程によって得られる溶液を基板に供給して膜を形成する膜形成工程と、膜形成工程によって得られる膜を水に接触させて加水分解を行う後加水分解工程と、を含む。この後加水分解工程の後に、100〜250℃の範囲内で加熱する加熱工程を行うことができる。反応工程は、さらにヒドロキシケトン誘導体を加えて反応させる工程であり得る。親水性シリカ膜は、膜上の水滴の接触角が20度以下であって、かつ平均細孔径が1〜10nmであることが好ましい。また、親水性シリカ膜付きのアクリル樹脂基板は、膜上の水滴の接触角が20度以下であって、この膜を付けた状態のアクリル樹脂基板の可視光透過率が92%以上であることが望ましい。図は、親水性シリカ膜の製造方法の一例を示すフローチャートである。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 株式会社信州TLO

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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