低ソーダアルミナの製造装置及び製造方法

開放特許情報番号
L2010002200
開放特許情報登録日
2010/3/19
最新更新日
2010/3/19

基本情報

出願番号 特願2002-537686
出願日 2001/10/18
出願人 昭和電工株式会社
公開番号 WO2002/034692
公開日 2002/5/2
登録番号 特許第3875952号
特許権者 昭和電工株式会社
発明の名称 低ソーダアルミナの製造装置及び製造方法
技術分野 無機材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 IC基板、ICパッケージ、電子材料セラミックス
目的 ソーダ成分の含有量が低く、焼結特性に優れ、低い温度でも焼成し、また安定した収縮率を備えた、安価な低ソーダアルミナの製造装置及び製造方法の提供。
効果 シリカ汚染など発生させることなく、焼結特性に優れ、安定した収縮率を得ることができる、安価な低ソーダアルミナを、連続的に製造することができる。また、この技術の方法により製造された低ソーダアルミナは、IC基板やICパッケージ、スパークプラグ、セラミックス製品などの用途に好適であり、工業的価値の高いものである。
技術概要
この技術の低ソーダアルミナの製造装置は、原料アルミナを焼成炉へ供給する手段と、脱ソーダ剤を焼成炉へ供給する手段と、供給された脱ソーダ剤をガス化して供給された原料アルミナへ接触させながら焼成する手段と、焼成炉から排出される排ガスを集塵機へ供給する手段と、供給された排ガス中に含まれるダストを捕集する集塵機を備える。また、集塵機で捕集したダストの一部を焼成炉へ循環する手段と、集塵機で捕集したダストの他の一部を系外へ排出する手段と、集塵機で捕集したダストの更に他の一部をpHをコントロールしつつスラリー化するスラリー化手段と、スラリー化手段から排出されるスラリー化されたダストを洗浄、濾過し、焼成炉へ循環させる手段と、焼成炉で焼成された低ソーダアルミナを排出する手段とを具備する。この技術によると、脱ソーダ剤として、塩化物系化合物を用い、焼成炉から排出される排ガス中のダストの一部は外に排出し、一部はpHを調整し、スラリー化して焼成炉へ循環させることにより、燒結特性が優れ、α結晶粒径のバラツキの少ない低ソーダアルミナを得ることができる。
実施実績 【有】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 昭和電工株式会社

その他の情報

関連特許
国内 【有】
国外 【有】   
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