無電解Ni−Pめっき液および無電解Ni−Pめっき方法

開放特許情報番号
L2010001804
開放特許情報登録日
2010/3/5
最新更新日
2014/3/27

基本情報

出願番号 特願2009-065049
出願日 2009/3/17
出願人 国立大学法人信州大学
公開番号 特開2010-215977
公開日 2010/9/30
登録番号 特許第5453601号
特許権者 国立大学法人信州大学
発明の名称 無電解Ni−Pめっき液および無電解Ni−Pめっき方法
技術分野 金属材料、無機材料
機能 材料・素材の製造、表面処理
適用製品 無電解Ni−Pめっき液、無電解Ni−Pめっき方法、無電解Ni−Pめっき液へのカーボンナノチューブの分散剤、トリメチルセチルアンモニウム塩、表面にカーボンナノチューブの先端が突出した無電解Ni−Pめっき皮膜、摺動特性に優れる被めっき物
目的 めっき液中に分散剤と微細炭素繊維(カーボンナノチューブ:CNT)とを分散させ、めっきを施して、基材表面に、CNTが混入しているめっき皮膜を形成するめっき方法が提案されている。しかし、無電解めっきの場合には、電解めっきの場合ほどは、CNTを良好に取り込むことはできなかった。特に、直径150nm前後、長さ10〜20μm程度とサイズの大きなCNTの取り込みは困難であった。そこで、大きなサイズのCNTであっても、めっき皮膜中に良好に取り込むことのできる無電解Ni−Pめっき液および無電解Ni−Pめっき方法を提供する。
効果 大きなサイズのCNTであっても、めっき皮膜中に良好に取り込むことができ、CNTは摩擦係数が小さく、CNTが無電解Ni−Pめっき皮膜の表面に多数斜めに突出している状態であることから、被めっき物表面の摩擦係数が小さく、摺動特性に優れる被めっき物を得ることができる。また、無電解Ni-Pめっきであることから、被めっき物が複雑な形状のものであっても均一な膜厚が得られる。更に、被めっき物が金属、非金属(樹脂材など)に関わらずめっきが可能である。
技術概要
この無電解Ni−Pめっき液は、CNTと、このCNTの分散剤としてのトリメチルセチルアンモニウム塩とを含む。分散剤としては、特にトリメチルセチルアンモニウムクロリドが好適である。トリメチルセチルアンモニウム塩の添加量は、めっき浴中のCNTの濃度によって最適な添加量が異なるが、CNTの濃度2g/Lであれば0.5〜1.0 g/l程度が好適である。無電解Ni−Pめっき方法は、この無電解Ni−Pめっき液を用いて無電解めっきを行い、被めっき物に、表面にCNTの先端が突出した無電解Ni−Pめっき皮膜を形成することからなる。CNTとして、太さが100nm〜200nmで、長さが10μm〜20μmの大きなサイズのものを用いることができる。長さは3μm〜4μmに調節したCNTを用いる方が、めっき皮膜中に良好に取り込むことができるので好適である。図は、直径150nm前後、長さ10〜20μm程度とサイズの大きなCNT(VGCF)および長さ3〜4μmにカットしたCNT(CUT−VGCF)の皮膜表面と断面のSEM写真、および無電解Ni−PのCNT複合めっき膜の摺動試験結果を示す。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 株式会社信州TLO

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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