多孔質シリカ膜およびその製造方法

開放特許情報番号
L2010001801
開放特許情報登録日
2010/3/5
最新更新日
2012/8/21

基本情報

出願番号 特願2009-034054
出願日 2009/2/17
出願人 国立大学法人信州大学
公開番号 特開2010-189212
公開日 2010/9/2
登録番号 特許第5007416号
特許権者 国立大学法人信州大学
発明の名称 多孔質シリカ膜の製造方法
技術分野 無機材料、電気・電子
機能 材料・素材の製造、表面処理
適用製品 多孔質シリカ膜およびその製造方法、低屈折率膜材料、光学機器・ディスプレイ・太陽電池等の反射防止コーティング材
目的 低屈折率材料は、光学機器、ディスプレイ、太陽電池等で反射防止コーティング材に用いられる。近年、反射防止特性の向上要求から、多孔性のシリカ材料が注目されている。しかし、従来の多孔質低屈折率材料は、その細孔に大気中の汚れが吸着し易く屈折率の上昇が起き易い。そこで、開発されたより微細な細孔を有する低屈折率膜は、多孔質のシリカ粒子による光の散乱が起き易い、密着性が低下し易い等の問題があった。そこで、低屈折率でそれを長期に維持可能であり、高硬度でかつ膜の密着性に優れる多孔質シリカ膜およびその製法を提供する。
効果 この技術によれば、低屈折率でそれを長期間にわたり維持可能であり、高硬度でかつ被コーティング材料への膜の密着性に優れる多孔質シリカ膜を得ることができる。そして、例えば、光学機器、ディスプレイ、太陽電池などの反射による光損失や透過光の減少を低減する低屈折率膜として利用可能である。
技術概要
多孔質シリカ膜およびその製造方法に関する。この多孔質シリカ膜は、膜の表面および内部に存在する細孔が直径2nm以下のミクロ孔のみであって、鉛筆硬度が5H以上であるシリカの膜である。好ましくは、この多孔質シリカ膜は、分光エリプソメータを用いて波長655nmの光を膜表面に対して入射角75度にて入射させた際の屈折率が1.33以下である。この多孔質シリカ膜の製造方法は、少なくとも、テトラアルキルオルソシリケート、メタノール若しくはエタノール、ヒドロキシケトン誘導体および水を混和して反応させる反応工程と、この反応工程によって得られる溶液を基板に供給して膜を形成する膜形成工程と、この膜形成工程によって得られる膜を水に接触して膜を洗浄する洗浄工程と、この洗浄工程後に250〜800℃の範囲で加熱する加熱工程と、を含む。今一つの方法として、洗浄工程に続く工程を、洗浄工程後に、脱水性の有機溶媒に膜を接触せしめる脱水工程と、脱水工程後に25〜200℃の範囲で膜を加熱する加熱工程と、を含む工程とすることができる。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 株式会社信州TLO

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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