サブミクロンハニカム構造の製造法

開放特許情報番号
L2010001656
開放特許情報登録日
2010/3/5
最新更新日
2011/3/18

基本情報

出願番号 特願2006-532591
出願日 2005/8/25
出願人 国立大学法人北海道大学
公開番号 WO2006/022341
公開日 2006/3/2
登録番号 特許第4682332号
特許権者 国立大学法人北海道大学
発明の名称 サブミクロンハニカム構造の製造法
技術分野 電気・電子、食品・バイオ
機能 材料・素材の製造
適用製品 光学・電子工学、再生医療等の分野で有用なサブミクロンハニカム構造体の製造に適用する。
目的 特定の条件下で非水溶液性ポリマーを処理するサブミクロンハニカム構造体の製造方法を提供する。
効果 直径10〜200nmの細孔を有する、非水溶性ポリマーからなる厚さ10〜1000nmのサブミクロンハニカム状多孔質体の製造が可能になる。
技術概要
(A)50dyn/cm以下の表面張力γLを有する水不和合性有機溶媒に非水溶性ポリマーを溶解して非水溶性ポリマーの水不和合性有機溶媒溶液を調製する工程、(B)工程Aで調製される非水溶性ポリマーの水不和合性有機溶媒溶液を基板の表面に塗布する工程、ここで基板の表面張力γSは塗布される水不和合性有機溶媒の表面張力γLならびに該基板と該溶媒との間の表面張力γSLに対してγS−γSL>γLの関係を満たす、(C)工程Bで基板上に塗布された非水溶性ポリマーの水不和合性有機溶媒溶液に相対湿度30%以上の空気を接触させて水不和合性有機溶媒を蒸発させる工程、ここで水不和合性有機溶媒の蒸発速度は非水溶性ポリマーの水不和合性有機溶媒溶液の基板表面への塗布時の液膜厚が1秒以内に1/5にまで減少する速度にする、を経ることからなるサブミクロンハニカム構造体の製造方法にする(図)。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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