位相回復方式の電子顕微鏡による観察方法

開放特許情報番号
L2010001619
開放特許情報登録日
2010/3/5
最新更新日
2011/6/3

基本情報

出願番号 特願2005-155069
出願日 2005/5/27
出願人 株式会社日立製作所、国立大学法人北海道大学
公開番号 特開2006-331901
公開日 2006/12/7
登録番号 特許第4726048号
特許権者 株式会社日立製作所、国立大学法人北海道大学
発明の名称 位相回復方式の電子顕微鏡による観察方法
技術分野 電気・電子
機能 機械・部品の製造、検査・検出
適用製品 位相回復方式の電子顕微鏡による観察システム
目的 実像と電子回折像を測定する際の微小径かつ平行な電子線を、明るくかつ均一な強度分布にする位相回復方式の電子顕微鏡による観察技術を提供する。
効果 実像と電子回折像を測定する際の微小径かつ平行な電子線を、明るくかつ均一な強度分布にする位相回復方式の電子顕微鏡による観察技術を実現できる。
技術概要
図1は走査透過電子顕微鏡を用いた場合の電子光学経路を示す図、図2は図1に示した試料への電子線照射方法を説明する図である。従来技術の透過電子顕微鏡(TEM)の光学系とは、走査コイル14や微小制限視野絞り15や検出角度制限絞り16やモニター17が付加されていること、結像レンズである中間レンズと投射レンズが無いことなどが異なる。位相回復方式の電子顕微鏡は、実像を観察する際には、収束電子線を試料3の注目領域2に走査しながら照射し、撮像素子11で検出した透過電子線の強度を収束電子線の走査と同期させてモニター17に表示することによって注目領域2を画像化し、電子回折像を観察する際には、注目領域2の形状と面積に一致する孔を有する制限視野絞り15を試料3の直上に挿入し、静止した平行電子線を制限視野絞り15を通して試料3の注目領域2に照射し、試料3を透過した電子線が作る電子回折像を撮像素子11により検出する。図3は他の例の透過電子顕微鏡を用いた場合の電子光学経路を示す図、図4は図3に示した微小径制限視野絞りの構成を説明する図である。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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