ドライガス浄化システム

開放特許情報番号
L2010001566
開放特許情報登録日
2010/3/5
最新更新日
2010/3/5

基本情報

出願番号 特願平11-147677
出願日 1999/5/27
出願人 高砂熱学工業株式会社
公開番号 特開2000-334242
公開日 2000/12/5
登録番号 特許第4249329号
特許権者 高砂熱学工業株式会社
発明の名称 浄化システム
技術分野 機械・加工、電気・電子、土木・建築
機能 洗浄・除去、加熱・冷却、機械・部品の製造
適用製品 クリーンルーム、ドライ環境設備、電池製造工程、低露点設備
目的 ドライガス、不活性ガス中に含まれる微量なアンモニアおよびガス状有機不純物を吸着して除去し、脱着により吸着剤を再生する。ケミカルフリー対策システムを安価に提供する。
効果 上記目的の達成。
技術概要
 
・汚染防止対象物の上流に不活性ガスの供給部、下流に排気部を設ける。 ・汚染防止対象物の上流側には上の排気部とは別の排気部(再生排気用)を設け、減圧された空気を排出可能とする。 ・不活性ガスの供給部と汚染防止対象物の間には次の構成のケミカルフィルタを設ける。 「親水性ゼオライト主成分とし、バインダとして次の無機物を用いて支持体の表面に固着させた吸着フィルタ。バインタとして用いる無機物:ガス状有機不純物を吸着する性質を有しかつ該ゼオライトの有効細孔径よりも大きな有効細孔径を有する無機物。」 給気部、排気部、別の排気部は開閉可能として流路を切り換えて用いる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 高砂熱学工業株式会社

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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