低露点空気利用の清浄空気生成装置

開放特許情報番号
L2010001562
開放特許情報登録日
2010/3/5
最新更新日
2010/3/5

基本情報

出願番号 特願2002-307181
出願日 2002/10/22
出願人 高砂熱学工業株式会社
公開番号 特開2004-141721
公開日 2004/5/20
登録番号 特許第4236443号
特許権者 高砂熱学工業株式会社
発明の名称 清浄空気生成装置
技術分野 機械・加工、土木・建築
機能 加熱・冷却、洗浄・除去
適用製品 半導体、液晶製造工程、クリーンドライ設備、クリーンルーム、電子部品生産プロセス
目的 ガス不純物(ケミカル汚染、分子汚染物質)対策を低コストで行う。ガス状不純物対策、ケミカルフリー設備を容易に構築する。
効果 上記目的の達成
技術概要
 
非水溶性の物質や難水溶性の物質の中には、これらの物質同士が気相中で反応し、又はこれらの物質と水とが気相中で反応して汚染物質を形成する物質(前 駆物質)がある。本発明は汚染物質と前駆物質を多段処理で除去するものである。 圧縮空気から膜式の減湿装置で中空糸膜を介して−80℃以下の低露点空気を生成し、この低露点空気を原料として前駆物質を除去する。 この除去手段は、空気中の極性分子を吸着する吸着剤(活性炭、シリカゲル、アルミナ、ゼオライト、及び金属ケイ酸塩等)を有するもので、例えば、公知のケミカルフィルタや、吸着ロータが挙げられる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 高砂熱学工業株式会社

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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