光2次非線形薄膜における1次及び2次光感受率異方性同時測定方法、当該方法を実行する装置及び当該方法をコンピュータに実行させるプログラム

開放特許情報番号
L2010000638
開放特許情報登録日
2010/1/22
最新更新日
2015/6/24

基本情報

出願番号 特願2009-188069
出願日 2009/8/14
出願人 独立行政法人理化学研究所
公開番号 特開2011-038949
公開日 2011/2/24
登録番号 特許第5382792号
特許権者 国立研究開発法人理化学研究所
発明の名称 光2次非線形薄膜における1次及び2次光感受率異方性同時測定方法、当該方法を実行する装置及び当該方法をコンピュータに実行させるプログラム
技術分野 電気・電子
機能 検査・検出
適用製品 有機アモルファス材料、薄膜試料、メーカーフリンジ曲線
目的 光2次非線形性薄膜の1次及び2次光感受率の異方性を実験的に同時に測定できる手法の提供。
効果 本技術によれば、実験的に同時に測定できなかった光2次非線形性薄膜の2つの光学物性値を、同一測定試料に対する実験により同時に求めることができる。
技術概要
この技術では、SH−MF曲線の振幅変化と周期変化にそれぞれ対応する変化が、SH−MF比曲線の異なる入射角範囲に独立に出現することを見出した。そこで、SH−MF比曲線に対応する理論関数式の2つの未知パラメータのそれぞれを対応する入射角範囲について独立に近似演算処理を実行することにより、SH−MF比曲線に近似する理論関数式を与える2つの未知パラメータを個別に決定する。例えば、透明基板上に堆積された光2次非線形性を有する有機アモルファス薄膜層は、ほとんどの場合、光学軸を透明基板に対して垂直とする空間対称性を有している。このような特性を有する測定試料の場合、一般に、基本波レーザー光の二つの偏光(p偏光とs偏光)を用いることにより、各偏光に対応する2種類のSH−MF曲線I↑(pp)及びI↑(sp)を測定することができる。すなわち、p偏光に対応するSH−MF曲線I↑(pp)とs偏光に対応するSH−MF曲線I↑(sp)を測定することができる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

アピール内容 実施許諾の可否・条件に関する最新の情報は、(独)理化学研究所連携推進部 知財創出・活用課までお問合せ下さい。

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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