培養方法及び培養装置

開放特許情報番号
L2010000123
開放特許情報登録日
2010/1/15
最新更新日
2012/3/2

基本情報

出願番号 特願2007-145786
出願日 2007/5/31
出願人 国立大学法人 筑波大学
公開番号 特開2008-295382
公開日 2008/12/11
登録番号 特許第4911516号
特許権者 国立大学法人 筑波大学
発明の名称 培養方法及び培養装置
技術分野 食品・バイオ
機能 安全・福祉対策
適用製品 チオレート、スペーサ物質、接着状態で培養した細胞の回収
目的 細胞を回収する操作性に優れた培養方法及び培養装置の提供。
効果 本技術によれば、作用電極表面で培養したスフェロイドを非侵襲的に、簡便且つ確実に脱離させて回収できる。すなわち、本技術は、スフェロイドの製造方法として極めて有用であることが確認できた。
技術概要
本技術は、チオレート(thiolate)を介してスペーサ物質が結合した電極表面に細胞を接着させて培養する第一工程と、細胞が接着している電極表面に、スペーサ物質が還元脱離する電位を印加して、細胞を電極表面から脱離させる第二工程と、を含む。さらに、この第一工程は、電極表面及び細胞を準備する準備工程と、電極表面に細胞を接着させる接着工程と、電極表面で細胞を培養する培養工程と、を含む。準備工程においては、スペーサ物質で覆われた電極表面を準備する。スペーサ物質としては、特定の材料からなる電極表面との間でチオレートを介した結合を自発的に形成できる官能基を有する化合物であれば特に限られず任意のものを使用することができる。すなわち、例えば、チオール基(−SH)、ジスルフィド(−S−S−)、スルフィド(−S−)等を有する化合物を使用することができ、電極表面に自己組織化単分子膜(Self Assembled Monolayer:SAM)を形成することができる化合物を好ましく使用することができる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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