カーボン系膜の表面処理方法

開放特許情報番号
L2010000046
開放特許情報登録日
2010/1/8
最新更新日
2015/9/29

基本情報

出願番号 特願2009-202235
出願日 2009/9/2
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2011-052276
公開日 2011/3/17
登録番号 特許第5392764号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 カーボン系膜の表面処理方法
技術分野 化学・薬品
機能 表面処理
適用製品 カーボン系膜の表面処理システム
目的 溶液及び有毒ガスを使用することなく、また煩雑な操作を施すことなく、安全、かつ簡便にカーボン系膜表面上にフッ素官能基を導入する方法を提供する。
効果 気体のペルフルオロアゾアルカンに紫外光照射をするだけの簡便な反応操作により、カーボン系膜表面上にフッ素官能基を導入することができる。また、従来用いられてきた有毒ガスを使用することがないので、安全に、煩雑さを伴うことなく、カーボン系膜の表面に、前記ペルフルオロアルキル基を結合させることができる。また、従来用いられていたフッ素系溶媒を使用する必要がないため、環境に優しい技術となり、溶媒に弱い材料に対してもフッ素官能基化が可能となり、より大面積基材への応用も可能となる。
技術概要
式:R↓FN=NR↓F(式中、R↓Fはペルフルオロアルキル基を示す。)で表される気体のペルフルオロアゾアルカンの存在下で、カーボン系膜に紫外光を照射することによりカーボン系膜の表面にペルフルオロアルキル基を化学結合させるカーボン系膜の表面処理方法である。ペルフルオロアゾアルカンのペルフルオロアルキル基の炭素数は、1〜12、好ましくは、1〜8、より好ましくは、5〜8である。具体的には、ペルフルオロアゾオクタン、ペルフルオロアゾヘプタン、ペルフルオロアゾヘキサン、ペルフルオロアゾペンタン等を用いることができる。また、波長170〜300nmの紫外光を照射する、カーボン系膜の表面処理方法である。また、光量を0.1〜100mW/cm↑2の範囲で照射する、カーボン系膜の表面処理方法である。図1は気体のペルフルオロアゾオクタン存在下、ダイヤモンド様炭素(DLC)膜にキセノンエキシマランプを照射して得られる、表面処理を施されたDLC膜のXPSスペクトルである。図2は気体のペルフルオロアゾオクタン存在下、ダイヤモンド膜にキセノンエキシマランプを照射して得られる、表面処理を施されたダイヤモンド膜のXPSスペクトルである。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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