新規ジホスフィン化合物、その製造方法及びそれを含む金属錯体

開放特許情報番号
L2009006989
開放特許情報登録日
2009/12/18
最新更新日
2013/8/28

基本情報

出願番号 特願2009-017385
出願日 2009/1/28
出願人 国立大学法人 岡山大学
公開番号 特開2010-173958
公開日 2010/8/12
登録番号 特許第5283175号
特許権者 国立大学法人 岡山大学
発明の名称 新規ジホスフィン化合物、その製造方法及びそれを含む金属錯体
技術分野 化学・薬品
機能 材料・素材の製造
適用製品 軸不斉光学活性体であるジホスフィン化合物、不斉合成用触媒
目的 不斉合成用触媒である遷移金属錯体の配位子として用いた際に、反応収率及びエナンチオ選択性が良好であって、しかも容易に合成できる新規ジホスフィン化合物の提供。
効果 本技術のジホスフィン化合物は、不斉合成用触媒である遷移金属錯体の配位子として用いた際に、反応収率及びエナンチオ選択性が良好であって、しかも容易に合成できる。したがって、各種の不斉合成反応に好適に用いることができる。また、ジホスフィン化合物の合成方法は、そのようなジホスフィン化合物などを、高い光学純度で容易に合成できるものである。
技術概要
この技術は、式(1)で表されるジホスフィン化合物である。[式中、R↑1、R↑2及びR↑3は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数1〜10のフッ素化アルキル基又は炭素数1〜10のフッ素化アルコキシ基を示す。R↑4は、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数1〜10のフッ素化アルキル基を示す。同一のベンゼン環に結合しているR↑1、R↑2、R↑3及びR↑4は、互いに結合して環を形成していてもよい。Arは、式(2)で表される置換フェニル基を示す。][式中、R↑5、R↑6、R↑7、R↑8及びR↑9で示される置換基のうち、3〜5個の置換基がフッ素原子又は炭素数1〜6のパーフルオロアルキル基であり、0〜2個の置換基が水素原子である。]
イメージ図
実施実績 【試作】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【可】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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