光伝送体及びその製造方法

開放特許情報番号

L2009006193

開放特許情報登録日

2009/10/30

最新更新日

2022/9/1

基本情報

出願番号	特願2008-052028
出願日	2008/3/3
出願人	独立行政法人科学技術振興機構
公開番号	特開2009-210706
公開日	2009/9/17
登録番号	特許第4639386号
特許権者	国立研究開発法人科学技術振興機構
発明の名称	光伝送体及びその製造方法
技術分野	情報・通信、有機材料
機能	機械・部品の製造、材料・素材の製造
適用製品	光ファイバ
目的	この発明は、従来の光伝送体の光学特性を維持しつつ、耐熱性に優れた光伝送体及びその製造方法を提供する。
効果	この発明によれば、従来の光伝送体の光学特性をもち、かつ、耐熱性により優れた光伝送体を製造することができる。
技術概要	光伝送体として用いられるプラスチック光ファイバには、ドーパント（屈折率上昇剤添加）タイプと共重合タイプがあるが、一般にはドーパントタイプの光ファイバの方が優れている。しかし、ドーパントタイプの光ファイバには耐熱性の問題がある。 この発明の光ファイバは、コアとクラッドから構成されており、コアにはポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）にドーパントが添加されており、外周のクラッドは、ポリメチルメタクリレートが使用されており、その屈折率はコアの屈折率より低い値に形成されている。コアにはドーパントとしてジベンゾフェン（ＤＢＴ）、または９−ブロモフェナントレン（ＢＰＴ）が用いられ、コアの中央部のドーパント含有率が３以上２５以下の範囲で、コアの外周部の方向にいくに従い濃度が連続的に低くされ、外周部のドーパント含有率がゼロになっていることが好ましい。この様にドーパントとして、ＤＢＴ或いはＢＰＴを用いることによってＰＭＭＡのガラス転移温度以下に低下することが防止され、プラスチック光ファイバの耐熱性を向上させることができる。
イメージ図
実施実績	【無】
許諾実績	【無】
特許権譲渡	【否】
特許権実施許諾	【可】

登録者情報

登録者名称	国立研究開発法人科学技術振興機構

その他の情報

関連特許	国内 【無】 国外 【無】