光伝送体及びその製造方法

開放特許情報番号
L2009006193
開放特許情報登録日
2009/10/30
最新更新日
2015/11/12

基本情報

出願番号 特願2008-052028
出願日 2008/3/3
出願人 独立行政法人科学技術振興機構
公開番号 特開2009-210706
公開日 2009/9/17
登録番号 特許第4639386号
特許権者 国立研究開発法人科学技術振興機構
発明の名称 光伝送体及びその製造方法
技術分野 情報・通信、有機材料
機能 機械・部品の製造、材料・素材の製造
適用製品 光ファイバ
目的 この発明は、従来の光伝送体の光学特性を維持しつつ、耐熱性に優れた光伝送体及びその製造方法を提供する。
効果 この発明によれば、従来の光伝送体の光学特性をもち、かつ、耐熱性により優れた光伝送体を製造することができる。
技術概要
光伝送体として用いられるプラスチック光ファイバには、ドーパント(屈折率上昇剤添加)タイプと共重合タイプがあるが、一般にはドーパントタイプの光ファイバの方が優れている。しかし、ドーパントタイプの光ファイバには耐熱性の問題がある。 この発明の光ファイバは、コアとクラッドから構成されており、コアにはポリメチルメタクリレート(PMMA)にドーパントが添加されており、外周のクラッドは、ポリメチルメタクリレートが使用されており、その屈折率はコアの屈折率より低い値に形成されている。コアにはドーパントとしてジベンゾフェン(DBT)、または9−ブロモフェナントレン(BPT)が用いられ、コアの中央部のドーパント含有率が3以上25以下の範囲で、コアの外周部の方向にいくに従い濃度が連続的に低くされ、外周部のドーパント含有率がゼロになっていることが好ましい。この様にドーパントとして、DBT或いはBPTを用いることによってPMMAのガラス転移温度以下に低下することが防止され、プラスチック光ファイバの耐熱性を向上させることができる。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

登録者情報

登録者名称 国立研究開発法人科学技術振興機構

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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